Gebraucht FUJIFILM TC 2000RM-CH #9399835 zu verkaufen
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FUJIFILM TC 2000RM-CH Diffusionsofen ist ein zuverlässiger und leistungsfähiger Diffusionsofen, der eine effiziente, gleichmäßige Erwärmung von Halbleitersubstraten und deren zugehörigen Strukturen ermöglicht. Die Maschine verfügt über einen langlebigen, hochpräzisen Reaktionssensor, eine fortschrittliche Kühlausrüstung für mehr Sicherheit und einen Kühlventilator zur Geräuschreduzierung. Es ist hochgeschwindigkeitsfähig und hat einen großen Temperaturbereich von 250 bis 450 ° C. Die Maschine ist mit zwei einzigartigen Hochpräzisionsheizgeräten, einem Reaktionssensor und einem Kühlsystem ausgestattet, um eine gleichmäßige, effiziente Erwärmung des Substrats zu ermöglichen. Die beiden Heizelemente ermöglichen eine automatisierte Regelung der Temperatur und Geschwindigkeit des Prozesses. Der Reaktionssensor ermöglicht eine genaue Messung der Temperatur und ermöglicht eine präzise und zuverlässige Steuerung. Die korrosionsbeständige, leichte Edelstahlkammer sorgt für eine lange Lebensdauer und einen störungsfreien Betrieb. Die fortschrittliche Kühleinheit wurde entwickelt, um die Bedienersicherheit bei Hochgeschwindigkeitsbetrieben zu gewährleisten. Es verfügt über einen eingebauten Luftvorhang, um das Substrat vor Schäden durch übermäßige Hitze zu schützen und einen Abluftventilator, um Lärmpegel zu reduzieren. Die Maschine verfügt auch über einen Not-Aus-Schalter, um den Diffusionsprozess im Notfall zu unterbrechen. TC 2000RM-CH wurde entwickelt, um höchste Sicherheits- und Leistungsstandards zu erfüllen und ist somit ideal für Anwendungen, die eine hohe Genauigkeit erfordern. Sein ergonomisches Design ermöglicht einen einfachen Zugang zur Kammer und die große Kapazität sorgt für eine schnelle Wendezeit. FUJIFILM TC 2000RM-CH ist ein effizienter, zuverlässiger und sicherer Diffusionsofen, der höhere Produktionserträge und effiziente Operationen liefert. Der große Temperaturbereich, die fortschrittliche Kühlmaschine und das ergonomische Design bieten eine erhöhte Sicherheit und zuverlässige Erwärmung von Halbleitersubstraten und sind somit eine ideale Wahl für alle Anwendungen.
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