Gebraucht GE 214 #293818401 zu verkaufen
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ID: 293818401
Quartz tubes
Inside diameter: 40 mm
Outside diameter: 43 mm
Length: 48".
GE 214 ist ein hochwertiger, zuverlässiger und vielseitiger Diffusionsofen und sein dazugehöriges Zubehör, das den anspruchsvollen Anforderungen der Halbleiterherstellung und Forschungsanwendungen gerecht wird. 214 Ofengeräte bieten eine präzise Kontrolle über Temperatur und Gasfluss, so dass es ideal für die Diffusion von Dotierstoffen in Siliziumwafer, um die gewünschten elektrischen Eigenschaften zu schaffen. Hauptbestandteil des GE 214-Systems ist der Diffusionsofen selbst, der aus hochreinem Quarzmaterial aufgebaut ist, um die thermische Stabilität und gleichmäßige Erwärmung zu gewährleisten. Die Ofenkammer ist für die gleichzeitige Aufnahme mehrerer Siliziumscheiben ausgelegt, was eine Hochdurchsatzverarbeitung ermöglicht. Die Heizelemente im Ofen sind strategisch platziert, um eine gleichmäßige Wärmeverteilung über die Wafer zu gewährleisten, wodurch gleichmäßige Diffusionsprofile gewährleistet sind. Temperaturregelung ist ein kritischer Aspekt des Diffusionsprozesses, und 214 Ofen ist mit fortschrittlichen Temperaturüberwachungs- und Regelungssystemen ausgestattet. Das Gerät ist in der Lage, Temperaturen bis zu 1200 ° C mit einer Genauigkeit von ± 1 ° C zu erreichen, was eine präzise Kontrolle des Diffusionsprozesses ermöglicht. Die Temperaturregelmaschine verfügt auch über schnelle Heiz- und Kühlfunktionen, die effiziente Bearbeitungszeiten ermöglichen. Die Gasflusssteuerung ist ein weiteres Schlüsselmerkmal des GE 214-Werkzeugs mit integrierten Massenstromreglern zur präzisen Regulierung von Dotierstoffgasen wie Phosphor und Bor. Die Anlage kann mehrere Gaseingänge aufnehmen und ermöglicht die Erstellung komplexer Dotierungsprofile. Das Gasliefermodell soll den Gasverbrauch minimieren und konsistente Dopingwerte über alle Wafer gewährleisten. Neben dem Ofen selbst kommen 214 Geräte mit einer Reihe von Zubehör und optionalen Funktionen, um seine Funktionalität und Vielseitigkeit zu verbessern. Dazu gehören Wafer-Be- und Entladesysteme, Gasreinigungsanlagen und Automatisierungssoftware zur Rezepturverwaltung und Prozesssteuerung. Das System kann auch mit fortschrittlichen Überwachungs- und Diagnosetools für die Echtzeit-Leistungsverfolgung und Fehlerbehebung ausgestattet werden. Das Gerät GE 214 wurde mit Blick auf Sicherheit und Zuverlässigkeit konzipiert, mit umfassenden Sicherheitsverriegelungen, Gasleckdetektionssystemen und Notabschaltverfahren. Die Maschine entspricht den Industriestandards und Vorschriften für die Halbleiterherstellung. Insgesamt bieten 214 Diffusionsöfen und ihr Zubehör eine robuste und flexible Lösung für Halbleiterverarbeitungsanwendungen, die präzise Dotierungsdiffusion erfordern. Mit seiner hochwertigen Konstruktion, fortschrittlicher Temperatur- und Gasflussregelung und umfassenden Sicherheitsmerkmalen ist das GE 214-Tool eine zuverlässige Wahl für Forschungs- und Produktionsumgebungen, in denen konsistente und reproduzierbare Ergebnisse unerlässlich sind.
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