Gebraucht HITACHI / KOKUSAI DD-1206VN-DM #9281054 zu verkaufen

ID: 9281054
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2004
Diffusion furnace, 12" Quixace I / QWM Furnace: Quixace-mini (Silica bake) furnace D4EX25085 Heater RHC Heat (Quick-cooling) RC-100 Exhaust pressure controller Furnace mount Scavenger Process exhaust duct Automation: I/O Shutter FOUP Transfer unit and loader Rotation FOUP rack unit: 12-Step carrier stage FOUP Opener unit Wafer detect unit Notch detect unit Wafer transfer unit Boat elevator unit: Up/down Boat rotation unit Furnace shutter unit Gas (N2, O2): Gas pressurized unit: Silica bake Gas detector Gas box Controller: CX3010 Controller CQ1700 Temperature controller Power control unit 2004 vintage.
HITACHI/KOKUSAI DD-1206VN-DM ist ein Diffusions- und Zubehörpaket, das eine automatisierte, hochleistungsfähige Lösung für die schnelle thermische Verarbeitung einer Vielzahl von Halbleitersubstraten bietet. Der Ofen besteht aus einem Quarzrohr und einer Graphit-Widerstandsheizung, die mit der Stromversorgungssteuereinheit verbunden sind, einer Strömungseinrichtung für die Gaseinleitung, einer Temperatursteuereinheit für den Temperatursollwert und die Überwachung und einer Vakuumpumpe für den Betrieb des gesamten Systems. Der Expansionskasten verfügt über mehrere Temperaturzonen, so dass mehrere Substrate gleichzeitig mit unabhängigen Heizzonen verarbeitet werden können. Der Diffusionsofen ist für eine Vielzahl von Halbleiterprozessen und Wafergrößen von 150 bis 300 mm für CVD- und PECVD-Anwendungen ausgelegt. Es verfügt über einen Hochtemperaturbereich von bis zu 1.250 ° C und eine enge Temperaturregelung mit einer Variation von ± 0,1 ° C und einer Gleichmäßigkeit von ± 0,25 ° C, wodurch thermische Prozesse optimiert werden können. Das Gerät verfügt außerdem über einen hocheffizienten Luftstrom, der eine gleichmäßige thermische Behandlung und einen verbesserten Durchsatz bietet. Sein Entgasungs-Kit ist auch verfügbar, um den Sauerstoffgehalt für Oxidätzen und Abscheidung zu reduzieren. Neben dem Ofen umfasst HITACHI DD-1206VN-DM Zubehör wie eine Kochplatte, Suszeptor-Träger, Hochtemperatur-Gaseinlassrohre und ein Ladeschacht, das einen einfachen Zugang zu Substraten ermöglicht, die bearbeitet werden müssen. Seine robuste Konstruktion sorgt für zuverlässige Leistung, während seine fortschrittliche mikroprozessorbasierte Steuerung eine verbesserte Heizungssteuerung im Vergleich zu anderen Diffusionsöfen auf dem Markt bietet. KOKUSAI DD-1206VN-DM ist ideal für Prozesse wie Oxidation, Glühen, Diffusion und Filmabscheidung und kann in verschiedenen Branchen eingesetzt werden, darunter Unterhaltungselektronik, Solarzellen, Biosensoren und medizinische Instrumente. Mit seiner hochpräzisen Temperaturregelung, einer effizienten Luftströmungsmaschine und einer großen Auswahl an Zubehör können DD-1206VN-DM die anspruchsvollen Anforderungen der modernen thermischen Verarbeitung erfüllen.
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