Gebraucht HITACHI / KOKUSAI DD-802V #9281673 zu verkaufen

HITACHI/KOKUSAI DD-802V ist ein Diffusionsofen und Zubehör für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Diese Art von Diffusionsofen wird speziell für Anwendungen wie die Herstellung von Dotierstoffen für die Herstellung von Siliziumwafern verwendet. Zu den Merkmalen von HITACHI DD-802V gehört eine Top-Ladeheizung mit einer maximalen Temperatur von 1250 ° C, die eine gleichmäßige Temperatur und Wiederholbarkeit ermöglicht. Zur Verwendung als Abdeckgas steht ein Stickstoffspülgas zur Verfügung, das durch Verringerung des Sauerstoffgehalts im Ofen eine Oxidation des Substrats verhindert. Die Steuereinheit ist mit einem LCD-Display ausgestattet, mit dem der Bediener die Temperatur und die Geschwindigkeit des Förderbandes einstellen kann. Diese Funktion ermöglicht eine präzise Steuerung und genaue Herstellung von Dotierstoffen. KOKUSAI DD-802V ist mit einer Qualitätsrahmenlösung konzipiert, um Industrieanforderungen zu erfüllen und Betriebssicherheit zu gewährleisten. Die PID-gesteuerten Heizelemente ermöglichen eine präzise Abstimmung der Temperatur und ein Ramp-to-Set sorgt dafür, dass der Ofen keinen thermischen Stößen ausgesetzt ist. Darüber hinaus verfügt der Lufteinlass des Ofens über eingebaute Filter, die die in der Umwelt vorhandene Staubkonzentration verringern und so umweltfreundlicher machen. Der Ofen ist außerdem mit einer Quarzampulle zur ampullenlosen Beladung ausgestattet, um thermische Belastungen sowie Verschmutzungen der Halbleiterscheiben zu minimieren. DD-802V verfügt auch über eine eingebaute Hot-Wall-Funktion, die hilft, die Abscheidungsrate und Gleichmäßigkeit des Dotierstoffs zu reduzieren. Dies hilft, die Gesamtleistung und Effizienz der Geräte zu verbessern. Eine Abgasanlage hilft, giftige Chemikalien im Luftabgas zu entfernen. Durch die Beseitigung des Risikos einer möglichen Kontamination sorgt HITACHI/KOKUSAI DD-802V für einen sicheren Betrieb mit Unterstützung von Sicherheitsalarmen. HITACHI DD-802V ist ein vielseitiges Werkzeug, das den Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird. Die Eigenschaften dieses Ofens machen es zu einer großen Wahl für den Diffusionsprozess Bedarf. Dieses Produkt ist eine effiziente und kostengünstige Lösung für jeden fortschrittlichen Herstellungsprozess, der eine Dotierstoffabscheidung erfordert.