Gebraucht HITACHI / KOKUSAI DJ-1206VN-DM #9400342 zu verkaufen
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ID: 9400342
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2005
Vertical LPCVD furnace, 12"
Process: Nitride
Wafer transfer handling system
(2) FOUPs
507 BW Mat scrubber
EST300WN Pump
2005 vintage.
HITACHI/KOKUSAI DJ-1206VN-DM ist ein Diffusionsofen und Zubehör, das hauptsächlich in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Es kombiniert sowohl einen Hochvakuum- als auch einen Niedervakuumofen, um eine einzige Lösung für Herstellungsprozesse wie Oxidation, Abscheidung, Nitrierung und Gettering bereitzustellen. Im Gegensatz zu anderen Diffusionsöfen, die in der Größe variieren können, ist dieses Modell ein mittelgroßer Diffusionsofen, der etwa 600mm (b) x 600mm (d) x 600mm (h) misst. Der Ofen verwendet einen Quarzkristall zur Temperaturüberwachung und -regelung für bestimmte Prozesse. Die innere Kammer des Ofens besteht aus Typ Q Quarz und bietet eine ausgezeichnete Wärmeleitfähigkeit und Temperaturkonsistenz während des Prozesses. Es ist mit einem Gettering-Nickel-Material für eine verbesserte Effizienz und maximale Temperaturgleichförmigkeit ausgekleidet. Das Gerät verfügt auch über Multi-Zone-Temperaturregelung für überlegene Oxidation, Abscheidung, Nitrierung und Gettering-Leistung. Dadurch können mehrere Bereiche der Kammer bei unterschiedlichen Temperaturen erwärmt werden, wodurch eine gleichmäßige Steuerung des gemäßigten Raumes möglich ist. HITACHI DJ-1206VN-DM bietet auch eine Atmosphäre Steuerung Ausrüstung mit Stickstoff oder Argongasen. Dieses System unterstützt die gleichmäßige Durchmischung von Gasen und verhindert mögliche Verunreinigungen. Das Gerät enthält auch eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen wie eine Druck- und Temperaturüberwachungseinheit, Notverriegelungen und Niederspannungsalarme. Es beinhaltet auch eine automatische Rückstellung der Hochtemperatursicherheitsgrenze, eine Gegendrucksteuerungsmaschine, ein verriegelungsfreies Ventil, ein Notentlüftungswerkzeug und eine Wärmedämmungsüberwachung. KOKUSAI DJ-1206VN-DM Diffusionsofen ist für überlegene Leistung und Genauigkeit in Diffusionsprozessen ausgelegt. Es ist eine zuverlässige und zuverlässige Lösung für die Halbleiterindustrie. Seine robuste Konstruktion, kombiniert mit seinen umfassenden Sicherheitsmerkmalen und der vielseitigen Atmosphärenkontrolle, machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für jede diffusionsbasierte Anwendung.
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