Gebraucht HITACHI / KOKUSAI Quixace DJ-1236VN-DF #293711268 zu verkaufen

ID: 293711268
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2016
Vertical LPCVD Furnace, 12" Heating element (2) Port loaders Power rack Spare parts Cables 2016 vintage.
Einführung: HITACHI/KOKUSAI Quixace DJ-1236VN-DF ist ein hochmoderner Diffusionsofen zur präzisen und gleichmäßigen thermischen Verarbeitung von Halbleiterscheiben. Diese moderne Ausrüstung ist mit einer Reihe von innovativen Funktionen und Zubehör ausgestattet, die es ideal für Serienumgebungen mit hoher Leistung und Zuverlässigkeit in der Halbleiterindustrie machen. Hauptmerkmale: HITACHI Quixace DJ-1236VN-DF Diffusionsofen ist ein vertikales Ofensystem mit einer Top-Ladekonfiguration, das einen einfachen Zugang zur Prozesskammer für das Be- und Entladen von Wafern bietet. Das Gerät ist mit einem Bootslader mit hoher Kapazität ausgestattet, der mehrere Waferträger aufnehmen kann, wodurch der Durchsatz und die Effizienz maximiert werden. Die Ofenkammer ist aus hochreinem Quarzmaterial aufgebaut, was eine ausgezeichnete Wärmedämmung und Beständigkeit gegen chemische Reaktionen gewährleistet, wodurch Verschmutzungen minimiert und eine hochreine Verarbeitung gewährleistet wird. Die Maschine verfügt über ein robustes Gasförderwerkzeug mit präzisen Massendurchflussreglern zur genauen Steuerung der Prozessgasdurchflussraten, die eine präzise Steuerung der Prozessbedingungen ermöglichen. KOKUSAI Quixace DJ-1236VN-DF Diffusionsofen ist mit einer Hochleistungsheizung ausgestattet, die ein schnelles Hochfahren und Herunterfahren der Temperaturen ermöglicht und eine schnelle und effiziente Verarbeitung von Wafern gewährleistet. Das Modell verfügt über eine Mehrzonen-Heizkonfiguration mit unabhängiger Temperaturregelung jeder Heizzone, die eine präzise Temperaturgleichförmigkeit über die Waferoberfläche ermöglicht. Prozesssteuerung und -überwachung: Quixace DJ-1236VN-DF Diffusionsofen ist mit einer ausgeklügelten Prozesssteuerungseinrichtung ausgestattet, die eine präzise Steuerung der Prozessparameter, einschließlich Temperatur, Gasdurchflussraten und Rampenraten, ermöglicht. Das System verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche, die eine einfache Programmierung von Prozessrezepten und die Überwachung von Prozessparametern in Echtzeit ermöglicht. Das Gerät ist mit fortschrittlichen Temperaturregelalgorithmen und Rückkopplungsmechanismen ausgestattet, die eine präzise Temperaturregelung und Gleichmäßigkeit über die Waferoberfläche gewährleisten. Die Maschine verfügt zudem über ein integriertes Sicherheitsverriegelungswerkzeug, das einen sicheren Betrieb des Ofens gewährleistet und das Gut vor potenziellen Gefahren schützt. Zubehör und Optionen: HITACHI/KOKUSAI Quixace DJ-1236VN-DF Diffusionsofen ist mit einer Reihe von Zubehör und Optionen erhältlich, um seine Fähigkeiten zu verbessern und an spezifische Prozessanforderungen anzupassen. Zu den optionalen Merkmalen gehören eine Lastschloßkammer für die automatisierte Waferbehandlung, ein Vakuumpumpenmodell für die Prozesskammer-Evakuierung und eine Wafer-Kartierungseinrichtung zur Überwachung der Waferposition und der Temperatur während der Verarbeitung. Das System kann mit verschiedenen Prozessgasabgabemöglichkeiten, einschließlich Dotierstoffgasquellen und Trägergassteuermodulen, konfiguriert werden, um eine Vielzahl von Diffusionsprozessen zu ermöglichen. Das Gerät kann auch mit einer fortschrittlichen Wafer-Tracking-Maschine ausgestattet werden, die die Rückverfolgbarkeit von Wafern während des gesamten Bearbeitungszyklus ermöglicht. Fazit: HITACHI Quixace DJ-1236VN-DF Diffusionsofen ist ein Hochleistungswerkzeug, das Präzision, Zuverlässigkeit und Effizienz bei der Verarbeitung von Halbleiterscheiben bietet. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen, der intuitiven Benutzeroberfläche und dem Zubehör ist dieses Produkt ideal für Serienumgebungen mit hoher Leistung und Kontrolle in Anwendungen der thermischen Verarbeitung in der Halbleiterindustrie.
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