Gebraucht KOKUSAI / BTI Apogee II+ #293651754 zu verkaufen

KOKUSAI/BTI Apogee II + ist ein hochmoderner Diffusionsofen und Zubehör für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente. Es verfügt über eine High-End-Wärmesteuerung, die es dem Anwender ermöglicht, die Temperatur bei Diffusionsprozessen genau zu verwalten. Die fortschrittliche Temperaturregelung ermöglicht das Erreichen von Temperaturen bis 1350 ° C in wenigen Minuten. Die Maschine verfügt zudem über einen großen Dynamikbereich, der eine schnelle Erwärmung und Kühlung unterschiedlichster Materialien ermöglicht. Das Werkzeug ist zudem mit einer hocheffizienten Gaslieferanlage für Gaslieferprozesse wie Etchback und CVD ausgestattet. Das Modell wird mit mehreren fortschrittlichen Tools wie einem Diffusionsprozessmonitor und einem Decaperf Plus Controller geliefert. Der Diffusionsprozessmonitor misst Echtzeit-Substrattemperatur und Gasfluss und ermöglicht eine Echtzeit-Optimierung des Diffusionsprozesses. Der Decaperf Plus Controller ist ein automatisiertes Gerät zur kontinuierlichen Überwachung des Temperaturprofils während des Diffusionszyklus. Zur Ausstattung gehört auch ein automatisches Waferübertragungssystem mit integriertem Waferhalter und Waferspanneinheit. Die Maschine ist für eine Vielzahl von Substraten ausgelegt und bietet Platz für bis zu 8-Zoll-Wafer. Es verfügt auch über ein erweitertes Mehrzonen-Heizwerkzeug, mit dem der Benutzer die Temperatur in verschiedenen Bereichen der Prozesskammer genau steuern kann. Die Anlage verfügt außerdem über ein Vakuummodell zur verbesserten Prozesssteuerung sowie eine Vakuumschutzausrüstung für mehr Sicherheit. Es wird auch mit verschiedenen Zubehörteilen wie einer Stickstoffleitung geliefert, die den Betrieb von stickstoffbasierten Ätzprozessen ermöglicht. BTI Apogee II + ist ein ideales System für die Herstellung von Halbleiterbauelementen und fortschrittliche Diffusionsprozesse. Es bietet eine hervorragende Temperaturregelung und Gaszufuhr, so dass eine Vielzahl von Prozessen auf sichere und effiziente Weise durchgeführt werden können. Darüber hinaus kann seine fortschrittliche Werkzeug- und automatisierte Wafer-Übertragung, kombiniert mit seiner Mehrzonen-Heizeinheit und fortschrittlichem Vakuumschutz, dazu beitragen, dass alle Prozesse korrekt durchgeführt werden, mit minimalem Risiko von Schäden an exponierten Substraten.