Gebraucht KOKUSAI CX-3000 #293762962 zu verkaufen

KOKUSAI CX-3000
ID: 293762962
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2015
Diffusion furnace, 12" P/N: DJ-1223VN Process: ALD SIN Main controller: CX3010 / CX3010B Power supply: 208 V, 1 Phase / 440 V, 3 Phase 2015 vintage.
KOKUSAI CX3000 ist eine hochentwickelte Diffusionsofenanlage, die speziell für die präzise und gleichmäßige thermische Verarbeitung von Halbleiterscheiben in der Halbleiterherstellungsindustrie entwickelt wurde. Dieses System ist mit einer Reihe von innovativen Funktionen und Zubehör ausgestattet, die eine optimale Leistung und Zuverlässigkeit in verschiedenen Serienumgebungen gewährleisten. Kern von KOKUSAI CX-3000 ist die hochmoderne Ofenkammer, die hohe Temperaturen bis 1200 Grad Celsius mit außergewöhnlicher Temperaturgleichmäßigkeit erreichen und halten kann. Diese Ofenkammer ist aus hochreinen Quarzmaterialien aufgebaut, die eine überlegene thermische Stabilität und Beständigkeit gegen chemische Reaktionen bieten und die Integrität der verarbeiteten Wafer gewährleisten. Um das Be- und Entladen von Waferträgern in den Ofenraum zu erleichtern, ist CX3000 mit einer ausgeklügelten automatisierten Wafer-Handhabungseinheit ausgestattet. Diese Maschine verfügt über fortschrittliche Robotik und Präzisionsmechanismen, die einen reibungslosen und effizienten Wafer-Transfer ermöglichen und das Risiko von Waferbrüchen oder Verschmutzungen beim Be- und Entladen minimieren. Neben der überlegenen thermischen Leistung und der Handhabung von Wafern verfügt CX-3000 über ein fortschrittliches Gasförderwerkzeug, das eine präzise Kontrolle der Prozessatmosphäre im Ofenraum ermöglicht. Diese Gasförderanlage umfasst Massenstromregler, Druckregler und Gasmischfähigkeiten, die eine genaue Versorgung mit verschiedenen Prozessgasen ermöglichen, die für spezifische thermische Verarbeitungsanwendungen erforderlich sind. KOKUSAI CX3000 ist zudem mit einem hochsensitiven Temperaturregelungsmodell ausgestattet, das die Ofentemperatur in Echtzeit überwacht und einstellt, um gleichmäßige Heiz- und Kühlprofile über die Waferoberflächen zu gewährleisten. Diese Temperaturregeleinrichtung verwendet Thermoelemente und Rückkopplungsschleifen, um eine enge Kontrolle über die thermischen Gradienten innerhalb der Ofenkammer aufrechtzuerhalten, um Schwankungen der Wafereigenschaften zu minimieren und konsistente Prozessergebnisse zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt KOKUSAI CX-3000 über ein benutzerfreundliches Schnittstellen- und Softwaresteuerungssystem, mit dem Bediener die thermischen Verarbeitungsrezepte problemlos programmieren und überwachen können. Die intuitive grafische Benutzeroberfläche bietet Zugriff auf eine breite Palette von Prozessparametern, Temperaturprofilen und Gasflusseinstellungen und ermöglicht es Benutzern, die thermischen Verarbeitungsbedingungen für spezifische Anforderungen an Halbleiterbauelemente anzupassen und zu optimieren. Für mehr Sicherheit und Zuverlässigkeit ist CX3000 mit mehreren Sicherheitsverriegelungen, Alarmen und Notabschaltmechanismen ausgestattet, die den Schutz des Bedieners gewährleisten und Geräteschäden bei Störungen oder Anomalien der Einheit verhindern. Diese Sicherheitsmerkmale entsprechen Industriestandards und -vorschriften und machen CX-3000 zu einer zuverlässigen und sicheren Plattform für hochpräzise Diffusionsprozesse. Abschließend bietet KOKUSAI CX3000 Diffusionsofenmaschine und Zubehör eine unübertroffene Leistung, Präzision und Zuverlässigkeit für Halbleiterhersteller, die überlegene Waferbearbeitungsergebnisse in Serienumgebungen erzielen möchten. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen, innovativem Design und einer benutzerfreundlichen Oberfläche ist KOKUSAI CX-3000 eine hochmoderne Lösung, die neue Maßstäbe im Bereich der thermischen Verarbeitungstechnologie setzt.
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