Gebraucht KOKUSAI CX-3000 #293762964 zu verkaufen
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ID: 293762964
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
Diffusion furnace, 12"
P/N: DJ-1206V -DF
Process: SI3N4
Main controller: CX3010 / CX3010B
Power supply: 100V, 1 Phase / 400 V, 3 Phase
2007 vintage.
KOKUSAI CX3000 ist ein vielseitiger und leistungsstarker Diffusionsofen für Halbleiterherstellungsprozesse. Es ist ein entscheidendes Werkzeug bei der Herstellung zuverlässiger und hochwertiger elektronischer Geräte, da es die kontrollierte Diffusion von Dotierstoffen in Siliziumwafer erleichtert, um spezifische elektrische Eigenschaften zu erreichen, die für integrierte Schaltungen erforderlich sind. Herzstück von KOKUSAI CX-3000 ist eine horizontale Rohrofenanlage, die eine kontrollierte thermische Umgebung für den Diffusionsprozess bietet. Das System besteht aus mehreren Heizzonen, die jeweils individuell gesteuert werden, um präzise Temperaturprofile über die Waferoberfläche zu erzielen. Dies ermöglicht eine gleichmäßige Dotierstoffverteilung und konsistente elektrische Eigenschaften in den fertigen Halbleiterbauelementen. CX3000 ist mit fortschrittlichen Gasförder- und Handhabungssystemen ausgestattet, um Dotierstoffgase und andere Prozessgase in die Ofenkammer einzuführen. Präzise Durchflusskontrollmechanismen gewährleisten die genaue Abscheidung von Dotierstoffen auf der Waferoberfläche, während Gasspülsysteme eine saubere und stabile Prozessumgebung ohne Verunreinigungen aufrechterhalten, die die Geräteleistung beeinträchtigen könnten. Die Ofenkammer selbst besteht aus hochreinem Quarz oder anderen geeigneten Materialien, die den für den Diffusionsprozess erforderlichen hohen Temperaturen standhalten können. Die Kammer ist für die gleichzeitige Aufnahme mehrerer Wafer ausgelegt, was den Prozessdurchsatz und die Effizienz erhöht. Dabei wird besonders darauf geachtet, die Partikelverunreinigung zu minimieren und die Sauberkeit der Verarbeitungsumgebung zu gewährleisten, da bereits geringe Verunreinigungen die Ausbeute und Zuverlässigkeit der Vorrichtung negativ beeinflussen können. Der Schlüssel zur Leistung von CX-3000 ist seine fortschrittliche Steuereinheit, die eine präzise Programmierung von Temperaturprofilen, Gasdurchflussraten und anderen Prozessparametern ermöglicht. Bediener können individuelle Rezepte erstellen, die auf spezifische Diffusionsanforderungen zugeschnitten sind und den Prozess für verschiedene Dotierstofftypen, Wafergrößen und Gerätestrukturen optimieren. Echtzeit-Überwachungs- und Feedback-Mechanismen gewährleisten Prozessstabilität und Konsistenz und ermöglichen hohe Erträge und Reproduzierbarkeit in der Produktion. Neben der Hauptofeneinheit kann KOKUSAI CX3000 mit einer Reihe von Zubehör und Optionen ausgestattet werden, um seine Fähigkeiten und Vielseitigkeit zu verbessern. Dazu gehören zusätzliche Gasleitungen für Multigas-Prozesse, Wafer-Handling-Systeme zum automatisierten Be- und Entladen sowie In-situ-Überwachungswerkzeuge zur Prozesscharakterisierung und -steuerung. Optionale Funktionen wie schnelle thermische Glühfähigkeit, Vakuumverarbeitung und kundenspezifische Prozesskammern erweitern die Funktionalität des Ofens für eine breite Palette von Halbleiteranwendungen. Insgesamt zeichnet sich KOKUSAI CX-3000 als zuverlässige und leistungsstarke Diffusionsofenmaschine aus, die den anspruchsvollen Anforderungen der modernen Halbleiterherstellung gerecht wird. Seine präzise Steuerung, seine fortschrittlichen Funktionen und sein robustes Design machen es zu einem unverzichtbaren Werkzeug für die Erzielung der hochwertigen, leistungsfähigen Halbleiter, die in heutigen elektronischen Geräten benötigt werden.
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