Gebraucht KOKUSAI CX-3000 #293762967 zu verkaufen
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ID: 293762967
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2004
Diffusion furnace, 12"
P/N: DD-1223VN
Process: BIO
Main controller: CX3010 / CX3010B
Power supply: 208V, 1 Phase / 440 V, 3 Phase
2004 vintage.
KOKUSAI CX3000 ist ein hochmoderner Diffusionsofen für die präzise und effiziente thermische Verarbeitung von Substraten, die in der Halbleiterherstellung verwendet werden. Diese fortschrittliche Ausrüstung ist mit modernster Technologie und Funktionen ausgestattet, die Hochleistungs-Diffusionsprozesse ermöglichen und gleichzeitig eine außergewöhnliche Kontrolle und Wiederholbarkeit gewährleisten. KOKUSAI CX-3000 System besteht aus mehreren Schlüsselkomponenten, die zusammenarbeiten, um eine kontrollierte Umgebung für Diffusionsprozesse zu schaffen. Die Hauptkammer des Ofens ist aus hochwertigen Materialien aufgebaut, die eine ausgezeichnete thermische Stabilität und gleichmäßige Wärmeverteilung bieten. Dadurch wird sichergestellt, dass die Substrate während des gesamten Prozesses konsistenten Temperaturen ausgesetzt sind, was zu präzisen Dotierungsprofilen und hoher Geräteleistung führt. Eines der herausragenden Merkmale von CX3000 ist seine fortschrittliche Heizeinheit, die Strahlungsheizelemente verwendet, um eine schnelle und gleichmäßige Erwärmung der Substrate zu erreichen. Dies ermöglicht schnelle Hochlaufzeiten und eine enge Temperaturregelung, reduziert die Prozessvariabilität und sorgt für hochwertige Ergebnisse. Darüber hinaus ist die Maschine mit fortschrittlichen Temperaturüberwachungs- und Regelmechanismen ausgestattet, die die Heizelemente kontinuierlich an die gewünschten Prozessbedingungen anpassen. Zusätzlich zu seinen überlegenen Heizfähigkeiten bietet CX-3000 eine Reihe innovativer Funktionen, die seine Leistung und Vielseitigkeit weiter verbessern. Das Werkzeug ist mit einer präzisen Gaszufuhr ausgestattet, die die genaue Kontrolle von Dotierstoffgasen und Trägergasen während des Diffusionsprozesses ermöglicht. Dadurch wird sichergestellt, dass die gewünschten Dotierstoffprofile mit hoher Reproduzierbarkeit erreicht werden, was zu gleichbleibender Geräteleistung führt. Darüber hinaus umfasst KOKUSAI CX3000 ein fortschrittliches Prozesssteuerungsmodell, das die Anpassung von Prozessrezepten und Parametern an spezifische Anforderungen ermöglicht. Bediener können die Temperaturprofile, Gasdurchflussraten und andere Prozessparameter einfach über eine benutzerfreundliche Schnittstelle programmieren und anpassen, wodurch Diffusionsprozesse für verschiedene Substrate und Anwendungen optimiert werden können. KOKUSAI CX-3000 ist auch mit Blick auf Produktivität und Benutzerfreundlichkeit konzipiert. Das Gerät verfügt über ein Hochdurchsatzdesign, das die gleichzeitige Verarbeitung mehrerer Substrate ermöglicht und die Produktivität und den Durchsatz erhöht. Darüber hinaus ist das System mit automatisierten Be- und Entlademechanismen ausgestattet, wodurch die manuelle Handhabung reduziert und der Prozessablauf gestrafft wird. Insgesamt ist CX3000 ein vielseitiger und leistungsstarker Diffusionsofen, der eine außergewöhnliche Kontrolle, Wiederholbarkeit und Produktivität für Halbleiterherstellungsanwendungen bietet. Mit seiner fortschrittlichen Technologie, innovativen Funktionen und dem benutzerfreundlichen Design ist dieses Gerät gut für eine Vielzahl von Diffusionsprozessen geeignet, sodass Halbleiterhersteller mit Effizienz und Präzision hochwertige Ergebnisse erzielen können.
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