Gebraucht KOKUSAI CX-3000 #293763012 zu verkaufen
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ID: 293763012
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2003
Diffusion furnace, 12"
Part number: DJ-1223VN -DF
Process: SI3N4
Main controller: CX3010 / CX3010B
Power supply: 208 V, Single phase / 440 V, 3 Phase
2003 vintage.
KOKUSAI CX-3000 ist ein hochmoderner Diffusionsofen für die Hochtemperaturverarbeitung von Halbleitermaterialien. Diese vielseitige Ausrüstung ist mit einer Reihe von Zubehör und Fähigkeiten ausgestattet, um die anspruchsvollen Anforderungen der Halbleiterindustrie zu erfüllen. Der Diffusionsofen weist eine horizontale Konfiguration mit mehreren Heizzonen auf, die eine präzise Steuerung des Temperaturprofils über die Bearbeitungskammer ermöglicht. Die Heizelemente bestehen aus hochwertigen Widerstandsdrähten oder Graphitstäben, die eine gleichmäßige und stabile Wärmeverteilung im gesamten Ofen gewährleisten. Einer der Schlüsselaspekte von KOKUSAI CX3000 ist das fortschrittliche Gasfördersystem, das eine präzise Steuerung von Prozessgasen wie Dotierstoffen und Oxidationsmitteln ermöglicht. Das Gerät ist mit Massendurchflussreglern und Gasverteilerkrümmern ausgestattet, um genaue und reproduzierbare Gasdurchflussraten während des Diffusionsprozesses zu gewährleisten. CX-3000 verfügt auch über eine ausgeklügelte Steuerungsmaschine, die eine Echtzeit-Überwachung und Anpassung von Prozessparametern ermöglicht. Das Tool ist mit einer benutzerfreundlichen Oberfläche ausgestattet, die dem Bediener einen einfachen Zugriff auf Sollwerte, Alarme und Datenerfassungsfunktionen bietet. Neben dem Diffusionsofen selbst, kommt CX3000 mit einer Reihe von Zubehör, um seine Fähigkeiten zu verbessern. Dazu gehören: 1. Lastschloßkammer: Die Lastschloßkammer ermöglicht ein schnelles und effizientes Be- und Entladen von Wafern in die Hauptverarbeitungskammer, minimiert Ausfallzeiten und erhöht den Durchsatz. 2. Gas Handling Asset: Das Gas Handling Modell umfasst Gasflaschen, Regler und Förderleitungen, um eine zuverlässige und kontinuierliche Versorgung des Diffusionsofens mit Prozessgasen zu gewährleisten. 3. Wafer Handling Equipment: Das Wafer Handling System besteht aus Roboterarmen oder Wafer Booten, die Wafer von der Load-Lock-Kammer zur Bearbeitungskammer und zurück transportieren, um eine präzise Positionierung und Handhabung der Wafer zu gewährleisten. 4. Vakuumeinheit: Die Vakuummaschine ist unerlässlich, um die für bestimmte Diffusionsprozesse erforderliche Niederdruckumgebung zu schaffen. KOKUSAI CX-3000 ist mit einer Hochleistungs-Vakuumpumpe und Drucksensoren ausgestattet, um das gewünschte Vakuumniveau zu halten. 5. Temperaturüberwachungswerkzeug: Die Temperaturüberwachungsanlage umfasst Thermoelemente und Infrarotsensoren, die eine Rückkopplung des Temperaturprofils innerhalb der Verarbeitungskammer in Echtzeit liefern und eine genaue Kontrolle der thermischen Verarbeitungsbedingungen ermöglichen. Insgesamt ist KOKUSAI CX3000 ein leistungsstarkes und zuverlässiges Diffusionsofenmodell, das eine beispiellose Leistung und Flexibilität für eine breite Palette von Halbleiterverarbeitungsanwendungen bietet. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen und Zubehör eignet sich dieses Gerät gut für Forschungs- und Produktionseinrichtungen, die präzise und reproduzierbare Diffusionsprozesse für die Halbleiterbauelementherstellung erzielen möchten.
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