Gebraucht KOKUSAI CX-3000 #293763013 zu verkaufen
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ID: 293763013
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2015
Diffusion furnace, 12"
Part number: DJ-1206VN-DM
Process: ALD SIN
Main controller: CX3010 / CX3010B
Power supply: 208 V, Single phase / 440 V, 3 Phase
2015 vintage.
KOKUSAI CX-3000 ist ein hochmoderner Diffusionsofen zur Hochtemperaturverarbeitung von Halbleitermaterialien in kontrollierter Atmosphäre. Dieses vielseitige Werkzeug bietet eine präzise Temperaturregelung, eine gleichmäßige Heizverteilung und eine Vielzahl von Zubehör, um den Anforderungen fortschrittlicher Halbleiterherstellungsprozesse gerecht zu werden. Herzstück von KOKUSAI CX3000 ist eine robuste vertikale Ofenkammer mit mehreren Heizzonen und Gasverteilkanälen. Der Ofenraum ist in einer temperaturgesteuerten Umgebung eingeschlossen, um auch bei extremen Temperaturen einen stabilen Betrieb zu gewährleisten. Die Heizelemente bestehen aus hochwertigen Materialien, die einer längeren Belastung durch raue Prozessbedingungen standhalten, ohne die Leistung zu beeinträchtigen. CX-3000 ist in der Lage, Temperaturen bis zu 1200 ° C zu erreichen, so dass es für eine breite Palette von Diffusionsprozessen geeignet ist, einschließlich Oxidation, Glühen und Dotieren. Das präzise Temperaturregelsystem ermöglicht es Anwendern, das Temperaturprofil während des gesamten Prozesses zu programmieren und zu überwachen, wodurch Reproduzierbarkeit und Konsistenz in der Waferbearbeitung gewährleistet sind. Um die Leistung und Flexibilität von CX3000 zu verbessern, stehen eine Vielzahl von Zubehör zur Verfügung, darunter Gasstromregler, Vakuumpumpen und Wafer-Ladesysteme. Gasstromregler regeln die Strömung von Prozessgasen in die Kammer und ermöglichen eine präzise Steuerung der Prozessatmosphäre und der Reaktionskinetik. Vakuumpumpen werden verwendet, um eine Niederdruckumgebung innerhalb der Kammer zu schaffen, die für bestimmte Prozesse wesentlich ist, die einen reduzierten Sauerstoffgehalt oder eine verbesserte Folienqualität erfordern. Das Wafer-Beladesystem ermöglicht ein effizientes Be- und Entladen von Wafern in den Ofenraum, minimiert Ausfallzeiten und verbessert die Produktivität. Das System verfügt über eine benutzerfreundliche Schnittstelle, mit der Bediener mehrere Wafer einfach gleichzeitig laden und entladen können, wodurch das Risiko einer Kontamination verringert und eine gleichmäßige Verarbeitung über alle Wafer gewährleistet ist. Zusätzlich zu seinen fortschrittlichen technischen Fähigkeiten ist KOKUSAI CX-3000 auf Benutzerfreundlichkeit und Sicherheit ausgelegt. Die Ofenkammer ist mit mehreren Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, einschließlich Überhitzungsschutz, Gaslecksuche und Not-Aus-Tasten, um Unfälle zu verhindern und die Sicherheit des Bedieners während des Betriebs zu gewährleisten. Insgesamt bieten KOKUSAI CX3000 Diffusionsofen und sein Zubehör eine umfassende Lösung für fortschrittliche Halbleiterverarbeitungsanforderungen. Mit seinen Hochtemperaturfähigkeiten, präzisen Steuerungssystemen und vielseitigem Zubehör ist CX-3000 ein vielseitiges Werkzeug für Forschungs- und Entwicklungslabore, Halbleiterfertigungsanlagen und andere Branchen, die präzise und zuverlässige Diffusionsprozesse erfordern.
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