Gebraucht KOKUSAI CX-3000 #293763107 zu verkaufen
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ID: 293763107
Wafergröße: 8"
Diffusion furnace, 8"
Part number: DJ-835V 8BL
Main controller: CX3001
Process: Nitride
Power supply: 120 V, Single phase / 208 V, 3 Phase.
KOKUSAI CX-3000 ist ein hochmoderner Diffusionsofen und dazugehöriges Zubehör, das den fortschrittlichen Verarbeitungsanforderungen von Halbleiterherstellern gerecht wird. Diese leistungsstarke Ausrüstung bietet eine Reihe modernster Funktionen und Fähigkeiten, um eine präzise und effiziente Verarbeitung von Siliziumwafern für verschiedene Halbleiteranwendungen zu ermöglichen. Mit dem Fokus auf Zuverlässigkeit, Wiederholbarkeit und Produktivität ist KOKUSAI CX3000 ein wesentliches Werkzeug, um qualitativ hochwertige Ergebnisse in der Halbleiterherstellung zu erzielen. Kern CX-3000 Systems ist der Diffusionsofen, ein kritischer Bestandteil zur Erstellung präziser Dotierstoffprofile in Siliziumscheiben. Der Ofen ist mit mehreren Heizzonen und Gaseinspritzsystemen ausgestattet, um die kontrollierte Diffusion von Dotierstoffen in das Siliziumsubstrat zu erleichtern. Dies ermöglicht die Anpassung elektrischer Eigenschaften im Wafer an die spezifischen Anforderungen des gewünschten Halbleiterbauelements. CX3000 verfügt über fortschrittliche Temperaturregelmechanismen, um eine gleichmäßige Erwärmung und Kühlung der Wafer während des Diffusionsprozesses zu gewährleisten. Diese präzise Temperaturregelung ist wesentlich, um konsistente Dotierstoffprofile über die Waferoberfläche zu erzielen und Schwankungen der elektrischen Eigenschaften zu minimieren. Das Gerät ist mit hochwertigen Thermoelementen und Heizelementen ausgestattet, um die Temperaturgenauigkeit während des gesamten Bearbeitungszyklus innerhalb enger Toleranzen zu halten. Neben der Temperaturregelung bietet KOKUSAI CX-3000 präzise Gasflusssteuerungsfunktionen für die präzise Dotierstoffeinleitung in den Diffusionsofen. Die Maschine verfügt über Massenstromregler und fortschrittliche Gashandhabungssysteme, um die Durchflussraten von Dotierstoffgasen wie Bor, Phosphor und Arsen genau zu steuern. Dies ermöglicht die Abscheidung von Dotierstoffen in bestimmten Konzentrationen und Tiefen innerhalb der Siliziumscheibe, um die gewünschten elektrischen Spezifikationen zu erfüllen. Um die Produktivität und Effizienz zu steigern, ist KOKUSAI CX3000 mit Automatisierungsfunktionen ausgestattet, die den Prozessorworkflow optimieren und manuelle Eingriffe minimieren. Das Tool ist mit einer benutzerfreundlichen Schnittstelle und einer Software-Steuerung ausgestattet, die eine einfache Programmierung von Prozessrezepten und die Überwachung wichtiger Parameter in Echtzeit ermöglicht. Diese Automatisierungsfunktion reduziert Bedienungsfehler, verbessert die Prozesswiederholbarkeit und beschleunigt die Verarbeitungszeiten insgesamt. Um die Sicherheit und Zuverlässigkeit des Diffusionsprozesses zu gewährleisten, ist CX-3000 mit umfassenden Sicherheitsmerkmalen und Verriegelungen ausgestattet, die gefährliche Bedingungen verhindern und sowohl die Ausrüstung als auch die Bediener schützen. Das Modell wurde entwickelt, um Sicherheitsstandards und -vorschriften der Industrie zu erfüllen und Halbleiterherstellern Sicherheit beim Betrieb der Geräte in ihren Reinraumumgebungen zu bieten. Abschließend sind CX3000 Diffusionsofen und Zubehör eine hochmoderne Lösung für Halbleiterhersteller, die präzise Dotierstoffprofile und optimale elektrische Eigenschaften in Siliziumscheiben erreichen wollen. KOKUSAI CX-3000 bietet mit seiner fortschrittlichen Temperaturregelung, dem Gasflussmanagement, Automatisierungsfunktionen und Sicherheitsfunktionen eine robuste Plattform für hochwertige Halbleiterherstellungsprozesse. Durch Investitionen in KOKUSAI CX3000 System können Halbleiterhersteller ihre Produktionskapazitäten verbessern, die Prozesseffizienz verbessern und überlegene Halbleiterbauelemente auf den Markt bringen.
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