Gebraucht KOKUSAI CX-3000 #293763115 zu verkaufen
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ID: 293763115
Wafergröße: 8"
Diffusion furnace, 8"
Part number: DJ-835V 8BL
Main controller: CX3001
Process: SI3N4
Power supply: 120 V, Single phase / 208 V, 3 Phase.
KOKUSAI CX-3000 ist ein hochmoderner Diffusionsofen für fortschrittliche Halbleiterherstellungsprozesse. Diese leistungsstarke Ausrüstung integriert modernste Technologien und Funktionen zur präzisen Steuerung und Gleichmäßigkeit in Diffusionsprozessen und ist damit eine ideale Lösung für die Massenproduktion in der Halbleiterindustrie. Der Hauptteil des KOKUSAI CX3000 Diffusionsofens ist aus hochwertigen Materialien gefertigt und mit Fokus auf thermische Effizienz und Stabilität konzipiert. Die Ofenkammer besteht aus einem hochreinen Quarzrohr, das hohen Temperaturen und korrosiven Gasen standhalten kann und eine ausgezeichnete Haltbarkeit und Zuverlässigkeit über längere Betriebszeiten gewährleistet. Das Rohr wird durch eine Reihe von Hochleistungsheizungen beheizt, die eine schnelle und gleichmäßige Erwärmung in der gesamten Kammer ermöglichen und die gewünschten Prozesstemperaturen schnell und effizient erreichen. CX-3000 ist mit einem ausgeklügelten Gasfördersystem ausgestattet, das eine präzise Steuerung der Prozessatmosphäre innerhalb der Ofenkammer ermöglicht. Das Gerät verfügt über Massenstromregler (MFCs) zur genauen und stabilen Durchflussregelung verschiedener Prozessgase, wie Dotierstoffquellen und Trägergase. Dies gewährleistet konsistente und wiederholbare Prozessergebnisse, die für die Erreichung enger Prozesstoleranzen in der modernen Halbleiterfertigung entscheidend sind. Die Temperaturregelung in CX3000 Diffusionsofen wird durch eine fortschrittliche Temperaturregelmaschine erreicht, die hochpräzise Thermoelemente und Temperaturregler verwendet. Diese Sensoren überwachen kontinuierlich die Temperatur im Ofenraum und passen die Heizparameter in Echtzeit an, um das gewünschte Temperaturprofil während des gesamten Prozesses beizubehalten. Das Werkzeug verfügt auch über thermische Gleichmäßigkeitsoptimierungsfunktionen, um sicherzustellen, dass die Wafertemperatur über den gesamten Prozessbereich gleichmäßig bleibt, wodurch Schwankungen der Dotierstoffkonzentration minimiert und die Gesamtprozessleistung verbessert wird. KOKUSAI CX-3000 Diffusionsofen wurde entwickelt, um verschiedene Wafergrößen aufzunehmen, von kleinen Forschungswafern bis hin zu großformatigen Produktionswafern, die in der Großserienfertigung verwendet werden. Das Asset bietet mehrere Waferbootkonfigurationen und Ladeoptionen, um unterschiedlichen Prozessanforderungen und Produktionsmengen gerecht zu werden. Der Wafer-Belademechanismus ist für reibungslose und effiziente Be- und Entladevorgänge, Minimierung von Zykluszeiten und Verbesserung des gesamten Prozessdurchsatzes ausgelegt. Um den Betrieb des KOKUSAI CX3000 Diffusionsofens zu ergänzen, bietet KOKUSAI eine Reihe von Zubehör und Peripheriegeräten, die zur Verbesserung der Modellleistung und -funktionalität entwickelt wurden. Dieses Zubehör umfasst Gasreiniger, Vakuumpumpen, Abgasminderungssysteme und Prozessüberwachungswerkzeuge, die alle nahtlos in die Hauptofenausrüstung integriert sind, um eine komplette und robuste Lösung für die Halbleiterverarbeitung zu bieten. Abschließend stellt CX-3000 Diffusionsofen einen Höhepunkt technologischer Innovation in der Halbleiterherstellung dar. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen, präzisen Steuerungsfunktionen und robustem Design ist CX3000 ein vielseitiges und zuverlässiges Werkzeug, um den anspruchsvollen Anforderungen moderner Halbleiterherstellungsprozesse gerecht zu werden.
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