Gebraucht KOKUSAI CX-5000 #293762571 zu verkaufen
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ID: 293762571
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2010
Diffusion furnace, 12"
P/N: DJ-1206VN-DF
Process: TiN
Main controller: KDSC
Power supply: 120 V, 1 Phase / 480 V, 3 Phase
2010 vintage.
KOKUSAI CX-5000 ist ein Diffusionsofen und Zubehör für Diffusionsprozesse bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es verfügt über ein Hochtemperaturdesign und bietet eine hervorragende Leistung für eine Vielzahl von Diffusionsprozessen, einschließlich Bor, Phosphor und Arsen-Dotierung. Es ist anpassungsfähig an vier-Zoll, sechs-Zoll und acht-Zoll-Wafer-Größen und verfügt über ein 250mm Quarz-Bearbeitungsrohr-Design für einheitliche Temperaturen. Diese Diffusionsausrüstung ist mit einem Nikon-Mikroskop zur Betrachtung der Wafer im Ofen ausgestattet, was eine schnelle Sichtkontrolle ermöglicht. CX-5000 hat drei einzelne Prozesszonen: die Vorwärmzone, die Diffusionszone und die Kühlzone. Die Vorwärmzone ist mit einer starken Heizung ausgebildet, um den Wafer gleichmäßig zu erwärmen, bevor er in die Diffusionszone eintritt, und ist unabhängig von der Diffusionszone, so dass er bei niedrigeren Temperaturen als die Diffusionszone betrieben werden kann. Durch diese Ausgestaltung wird gewährleistet, daß die Temperaturen im gesamten Wafer in der Vorwärmzone gleichmäßig sind und ein Ausbilden von Wärmegradienten nach Eintritt in die Diffusionszone verhindert wird. Die Diffusionszone hat eine Hochtemperaturauslegung mit stabilen Temperaturen für genaue Diffusionsprozesse im gesamten System. Das Hochtemperaturdesign arbeitet bei Temperaturen zwischen 800 und 1150 Grad Celsius und ermöglicht die Verarbeitung von Bor, Phosphor und Arsen-Dotierungsdiffusion. Die Diffusionszone umfasst auch einen automatischen Probenkammerwischer zur effizienten Reinigung. KOKUSAI CX-5000 Diffusionsofen ist auch mit einem eingebauten Gasversorgungstank, Vakuumpumpe und Gasmonitor für erhöhte Prozesskontrolle und Sicherheit ausgestattet. Die Kühlzone CX-5000 Diffusionsofens bietet einen effizienten und schnellen Kühlprozess. Es ist mit einer zweistufigen Kühleinheit ausgestattet, die mit einer maximalen Kühlrate von 50 Grad Celsius pro Minute arbeitet. Die Kühlzone verhindert Waferrisse während des Kühlprozesses und bietet eine erhöhte Maschinenleistung. KOKUSAI CX-5000 Diffusor enthält auch eine Vielzahl von zusätzlichen Funktionen, die Genauigkeit und Leistung erhöhen, wie ein E-Umfang, der die Temperatur jeder Probe kontinuierlich überwacht, ein Max-Power-Monitor mit Alarmausgang und ein lüfterartiges Kühlwerkzeug, um die Erwärmung der Geräte bei erweiterten Diffusionsprozessen zu reduzieren. CX-5000 ist aufgrund seiner hohen Temperatur und der hervorragenden Leistung die perfekte Wahl für Hochtemperaturdiffusionsprozesse. Mit seinen fortschrittlichen Eigenschaften und Fähigkeiten ist dieser Diffusionsofen die ideale Wahl für verschiedene Herstellungsverfahren von Siliziumbauelementen.
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