Gebraucht KOKUSAI CX-5000 #293762979 zu verkaufen

KOKUSAI CX-5000
ID: 293762979
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
Diffusion furnace, 12" Part number: DJ-1206VN -DF Process: SI3N4 Main controller: KDSC Power supply: 120 V, 1 Phase / 480 V, 3 Phase 2007 vintage.
KOKUSAI CX-5000 ist ein vielseitiger und effizienter Diffusionsofen für eine Vielzahl von Anwendungen im Zusammenhang mit der Herstellung von Halbleiterbauelementen, einschließlich thermischer Oxidation, Glühen und Diffusionsprozesse. Es kann bis zu dreidimensionale Substrate einschließlich verschiedener Wafer, SOI und Glassubstrate unterstützen. Der Ofen ist für Flexibilität und überlegene Prozessleistung gebaut. Es ist sowohl mit schneller thermischer Oxidation (RTO) als auch mit schnellem thermischem Glühen (RTA) ausgestattet. Das RTO ermöglicht die Oxidation der Oberflächenschichten von Wafern, während das RTA thermisch fragile Substrate glühen kann. Beide Verfahren bieten eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit bei Substrattemperatur und Werkstücktemperatur. CX-5000 verwendet eine Dreikammer-/Dual-Zone-Konstruktion. Dies bietet separate Temperaturzonen für einzelne Komponenten sowie eine optimale Steuerung. Fortschrittliche Gasströmungsmodelle werden verwendet, um die Gleichmäßigkeit und Gleichmäßigkeit des Gases zu gewährleisten, das in die Reaktionskammer eintritt. Die drei Kammern sind in einem luftdichten Gehäuse untergebracht, das einen Überdruck aufrechterhalten kann und für hochreine Prozessgase sorgt. Die Temperaturregeleinrichtung besteht aus einem Servomechanismus, der eine Reihe von Sensoren aufweist, die Parameter wie Temperatur, Druck und Sauerstoffkonzentration messen und steuern. Für KOKUSAI- CX-5000 stehen eine breite Palette an Zubehör zur Verfügung, darunter PHZ-Module (Pre-Heat Zone), Profilmonitormodule, Multi-Spin-Module und fortschrittliche Abgasanlagen. Vorwärmezonen sind notwendig, um eine gleichmäßige Temperaturverteilung in der Verarbeitungskammer zu gewährleisten. Mit Profilmonitoren wird das Temperaturprofil während der Oxidation und Diffusion gemessen. Multi-Spin-Module ermöglichen eine höhere Belastung der Kammer mit mehreren Wafern. Die fortschrittlichen Abgasanlagen sind so konzipiert, dass sie einen hohen Reinheitsgrad in der Kammeratmosphäre und im Abgasstrom aufrechterhalten. Das fortschrittliche Kontrollsystem von CX-5000 bietet eine präzise und zuverlässige Steuerung von Schlüsselparametern wie Temperatur, Druck und Sauerstoffkonzentration und sorgt für überlegene und wiederholbare Prozessergebnisse. Es kann mit Computern verbunden werden, um die Fernsteuerung des Prozesses und die entfernte Datenerfassung zu ermöglichen. Das Gerät umfasst auch Sicherheitsmerkmale wie Temperaturüberschusserkennung und Druckregelung. Insgesamt ist KOKUSAI CX-5000 ein fortschrittlicher und effizienter Diffusionsofen mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und Prozesssicherheit. Es ist mit einer breiten Palette von Zubehör gebaut, um eine wirklich vielseitige und überlegene Maschine für eine Vielzahl von Diffusionsprozessen bieten. Darüber hinaus ist CX-5000 Diffusionsofen für einfache Bedienung und Wartung ausgelegt. Es ist einfach zu kalibrieren und zu beauftragen, und sein modularer Aufbau sorgt dafür, dass die Wartung einfach ist. Das Design macht es auch einfach, Hardwarekomponenten zu aktualisieren oder bei Bedarf zusätzliche Funktionen hinzuzufügen.
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