Gebraucht KOKUSAI CX-5000 #293763033 zu verkaufen

KOKUSAI CX-5000
ID: 293763033
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2015
Diffusion furnace, 12" Part number: DJ-1236VN -DF Process: ALD Power supply: 120 V, Single phase / 480 V, 3 Phase 2015 vintage.
KOKUSAI CX-5000 ist eine hochmoderne Diffusionsofenanlage für die Halbleiterindustrie. Diese fortschrittliche Ausrüstung wird in der Herstellung von Halbleitern verwendet, wo eine präzise Steuerung der Temperatur und atmosphärischen Bedingungen entscheidend für die Erzielung hochwertiger Ergebnisse sind. CX-5000 wird von der KOKUSAI Electric Corporation, einem führenden Anbieter von Halbleiterherstellungsgeräten, hergestellt. KOKUSAI CX-5000 Diffusionsofen wurde entwickelt, um Diffusionsprozesse durchzuführen, bei denen Dotierstoffe in Halbleitermaterialien eingeführt werden, um ihre elektrischen Eigenschaften zu ändern. Dies ist ein entscheidender Schritt bei der Herstellung von integrierten Schaltungen und anderen Halbleiterbauelementen. Der Ofen verfügt über eine Hochtemperaturkammer, in der die Wafer in einer kontrollierten Umgebung verarbeitet werden, um eine gleichmäßige und gleichmäßige Diffusion von Dotierstoffen über das Substrat zu gewährleisten. Eines der Hauptmerkmale von CX-5000 ist sein fortschrittliches Heizsystem, das eine präzise Temperaturregelung im Ofenraum ermöglicht. Dies ist wesentlich, um das gewünschte Diffusionsprofil auf den Halbleiterscheiben zu erreichen. Der Ofen ist mit mehreren Heizzonen ausgestattet, die unabhängig gesteuert werden können, um spezifische Temperaturgradienten über die Wafer zu erzeugen. Durch diese Steuerung wird sichergestellt, dass der Diffusionsprozess mit hoher Genauigkeit und Wiederholgenauigkeit durchgeführt wird. Neben der Temperaturregelung bietet KOKUSAI CX-5000 auch eine präzise Steuerung der Atmosphäre im Ofenraum. Das Gerät ist mit Gasstromreglern ausgestattet, die eine präzise Einleitung von Dotierstoffgasen und Trägergasen in die Kammer ermöglichen. Dadurch wird sichergestellt, dass die Dotierstoffe gleichmäßig über die Wafer verteilt sind, was zu gleichmäßigen Dotierungsprofilen und gleichmäßiger Geräteleistung führt. CX-5000 verfügt über eine benutzerfreundliche Oberfläche, die es den Betreibern ermöglicht, den Diffusionsprozess einfach zu programmieren und zu überwachen. Die Maschine ist mit einem Touchscreen-Display und einer intuitiven Software ausgestattet, mit der Benutzer verschiedene Parameter wie Temperatur, Gasdurchflussraten und Verarbeitungszeiten einstellen können. Dieser Automatisierungsgrad vereinfacht den Betrieb des Ofens und reduziert die Wahrscheinlichkeit menschlicher Fehler. Ein weiteres bemerkenswertes Merkmal von KOKUSAI CX-5000 ist seine Kompatibilität mit einer Vielzahl von Halbleiterscheibengrößen. Das Werkzeug kann Wafer mit unterschiedlichen Durchmessern aufnehmen, so dass Flexibilität in der Produktion und Forschung Anwendungen. Diese Vielseitigkeit macht CX-5000 zu einem vielseitigen Werkzeug für Halbleiterhersteller und Forschungseinrichtungen gleichermaßen. Neben der Ofenkammer kommt KOKUSAI CX-5000 auch mit einer Reihe von Zubehörteilen, die seine Fähigkeiten verbessern. Dieses Zubehör kann Gasreinigungseinheiten, Gasdurchflussmesser, Druckwandler und Vakuumpumpen umfassen. Diese Komponenten arbeiten zusammen, um eine kontrollierte Umgebung innerhalb des Ofenraums zu schaffen und den Erfolg des Diffusionsprozesses zu gewährleisten. Abschließend ist CX-5000 Diffusionsofen ein modernes Gerät, das eine präzise Kontrolle über Temperatur und atmosphärische Bedingungen für die Halbleiterverarbeitung bietet. Seine erweiterten Funktionen, benutzerfreundliche Schnittstelle und Kompatibilität mit verschiedenen Wafergrößen machen es zu einem wertvollen Werkzeug für Halbleiterhersteller und Forscher, die qualitativ hochwertige Diffusionsprozesse erreichen möchten.
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