Gebraucht KOKUSAI CX3000 #9291191 zu verkaufen

KOKUSAI CX3000 ist eine Diffusionsofenanlage, die das Wachstum fortschrittlicher Halbleiterbauelemente erleichtern soll. Es ist ein Mehrzonenofen, der Temperaturen im Bereich von 20-1470 Grad Celsius aufweist, wodurch er für den Einsatz in einer Vielzahl von Halbleiteranwendungen geeignet ist, einschließlich Epitaxie, Oxidation, Dotierungsaktivierung und Oxidation. Das System besteht aus einer Basiseinheit, einer Vakuumkammer und einer Reihe von Zubehörteilen einschließlich einer Abgasanlage, Stromversorgungen und einem Graphitsensizeptor. KOKUSAI CX-3000 verfügt über eine hochtemperaturkeramische Wärmedämmmaschine und ein fortschrittliches Steuerwerkzeug zur präzisen Temperaturregelung und -einstellung. Der Metalllegierungs-Suszeptor wird mit Hochfrequenz-Induktions-Heizelementen beheizt, wodurch eine schnelle und gleichmäßige Erwärmung bei minimalem Quellenschaden erreicht wird. Die Anlage ist auch in der Lage, positive Temperaturen auf der Oberfläche des Suszeptors bereitzustellen, so dass gleichmäßige Temperaturverteilungen und eine präzise Steuerung der Temperaturprofile möglich sind. Die Hochtemperatur-Zweizonen-Prozesskammer ermöglicht eine präzise Regelung von Temperaturzonen und gleichmäßigen thermischen Gradienten. Es ist mit einem Quarzfenster und Kreuzkupplung entworfen, um Gleichmäßigkeit in der gesamten Kammer zu gewährleisten. CX3000 verfügt außerdem über einen Niedertemperaturempfänger, einen speziell für Tieftemperaturprozesse konzipierten Graphitsensizeptor und eine Ätzstation. CX-3000 Modell bietet in nahezu jedem Aspekt seiner Konstruktion erhebliche Flexibilität. Es ist mit einer benutzerfreundlichen, offenen Architekturplattform entworfen, um eine einfache Konfiguration der Ausrüstung für spezifische Prozessanforderungen zu ermöglichen. Es ist auch in modularisierter Bauteilkonstruktion konzipiert und bietet Kunden die Flexibilität, das System auf ihre spezifischen Bedürfnisse abzustimmen. Abschließend ist KOKUSAI CX3000 eine fortschrittliche Diffusionsofeneinheit, die für eine Vielzahl von Halbleiteranwendungen geeignet ist. Es verfügt über präzise Temperaturregelfähigkeiten, die optimale thermische Steigungen und eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit ermöglichen. Das modularisierte Bauteildesign und die benutzerfreundliche Oberfläche ermöglichen zudem eine hochgradig anpassbare und flexible Maschine, die auf die Bedürfnisse nahezu aller Fertigungsprozesse zugeschnitten werden kann.