Gebraucht KOKUSAI DD-1223VN #9179435 zu verkaufen

KOKUSAI DD-1223VN
ID: 9179435
Vertical LPCVD furnaces, 12".
KOKUSAI DD-1223VN ist ein Diffusionsofen und Zubehörpaket für Halbleiterverarbeitungsanwendungen wie Dünnschichtabscheidung, Epitaxie, Oxidation und Diffusion. Der Ofen besteht aus einem Systemregler, Diffusionsheizer, Turbopumpeneinheit und Quarzkammer, mit einem Fokus auf Präzisionstemperaturregelung und genauen Gasfluss. Der Systemcontroller ist ein 3-Zoll-TFT-LCD mit Touch-Panel-Schnittstelle, mit der Benutzer Temperaturparameter eingeben, PID-Schleifen für eine präzise Temperaturregelung einstellen, Betriebsparameter anzeigen und vieles mehr. Der Diffusionsheizer ist ein hochwertiger, hocheffizienter Heizer, der Temperaturen bis zu 1500 Grad Celsius erreichen kann und eine gleichmäßige Temperaturverteilung aufweist und mit Gasen wie 1-Tetramethylsilan und Silan kompatibel ist. Die Turbopumpeneinheit verwendet ölfreie Rotationspumpen und kann einen Basisdruck von 0.2Torr erreichen. Dies gewährleistet zuverlässige Leistung und unberührte Vakuumbedingungen. Die Quarzkammer ist aus geschmolzenem Siliciumdioxid-Material konstruiert, um hohen Temperaturen und korrosiven Materialien standzuhalten. Die Kammer hat ein Innenvolumen von 25l mit 12 Zoll Durchmesser und 8 Zoll Höhe und verfügt über ein Druckentlastungsventil, um die notwendigen Druckbedingungen während der Verarbeitung aufrechtzuerhalten. DD-1223VN bietet eine umfassende Palette von Funktionen, die es zu einer idealen Wahl für jede Halbleiterverarbeitungsanwendung machen. Mit präziser Temperaturregelung und zuverlässigem Gasfluss ist es eine ausgezeichnete Option für Abscheidung, Epitaxie, Oxidation und Diffusion. Darüber hinaus sorgt das Design der Kammer dafür, dass Materialien den Innenraum nicht verschmutzen, was KOKUSAI DD-1223VN ideal für alle Prozesse macht.
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