Gebraucht KOKUSAI DJ-853V-8BL J2 #293729523 zu verkaufen
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ID: 293729523
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2000
Furnace, 6"
Paint color: Ivory
LC-750 O2 Analyzer
Cassette: Normal I/O
CX3002B Main controller
CX1223 Mechanical controller
OMRON CS12G Sequence controller
CX3202 Gas controller
CQ1600 Furnace temperature controller
DN-150V Furnace overtemp detector
RIKEN KEIKI GD-D8V Sensor
Detecting H2 Gas
Host communication
Host computer I/F HSMS
Gas system:
Process gas: N2, H2
FUJIKIN Manual valve
FUJIKIN Air-Operated valve
MILLIPORE Filter
Veriflow regulator
MFC STEC / SEC-7330
Nagnano PT Sensor
DPM Nagano
Cassette handling:
(18) Cassette storages
(25) Wafer cassettes
Fork type: 1+4 VAC
Fork wafer presence sensor
Fork variable pitch
Install option:
Gas flow chart panel
Operation panel
2000 vintage.
KOKUSAI DJ-853V-8BL J2 Diffusionsofen ist eine hochmoderne thermische Verarbeitungsanlage, die in der Halbleiterindustrie zum Zwecke der Diffusion von Dotierstoffen in Siliziumscheiben eingesetzt wird. Der Diffusionsofen umfasst fortschrittliche Merkmale und Funktionalitäten, die eine präzise Kontrolle des Diffusionsprozesses ermöglichen und eine hohe Effizienz und Wiederholbarkeit in der Halbleiterherstellung gewährleisten. Eine der Schlüsselkomponenten DJ-853V-8BL Diffusionsofens J2 ist das Quarzrohr, das als Kammer dient, in der die Siliziumscheiben für den Diffusionsprozess beladen werden. Das Quarzrohr ist sehr langlebig und kann hohen Temperaturen standhalten, was es ideal für die Aufrechterhaltung einer stabilen thermischen Umgebung während des Diffusionsprozesses macht. Darüber hinaus ist das Quarzrohr für eine gleichmäßige Wärmeverteilung ausgelegt, wodurch konsistente Diffusionsergebnisse über die gesamte Waferoberfläche ermöglicht werden. Der Diffusionsofen ist mit einem Hochtemperaturheizelement aus robusten Materialien ausgestattet, das je nach den spezifischen Anforderungen des Diffusionsprozesses Temperaturen bis zu 1200 ° C oder höher erreichen kann. Das Heizelement ist entscheidend für die Bereitstellung der notwendigen thermischen Energie, um die Diffusion von Dotierstoffen in die Siliziumscheiben zu treiben, so dass der Prozess effizient und effektiv durchgeführt wird. Um die Temperatur im Diffusionsofen zu steuern, verfügt KOKUSAI DJ-853V-8BL J2 über eine ausgeklügelte Temperaturregeleinrichtung mit Präzisionsthermoelementen und Heizgeräten. Das Temperaturregelsystem ermöglicht eine genaue Überwachung und Einstellung des Temperaturprofils des Ofens und gewährleistet, dass der Diffusionsprozess unter optimalen Bedingungen durchgeführt wird. Diese genaue Temperaturregelung ist wesentlich, um das gewünschte Dotierstoffprofil und die Diffusionstiefe in den Siliziumscheiben zu erreichen. Neben der Temperaturregelung ist der Diffusionsofen mit einer Gasfördereinheit ausgestattet, die die Einleitung von Dotierstoffgasen in das Quarzrohr ermöglicht. Die Gasfördermaschine ist so konzipiert, dass sie eine präzise Durchflusskontrolle und Mischung von Dotierstoffgasen gewährleistet und eine gleichmäßige Diffusion von Dotierstoffen über die Waferoberfläche ermöglicht. Dieses Merkmal ist entscheidend für die Erzielung einheitlicher Dotierstoffkonzentrationsprofile und die Minimierung von Schwankungen der Geräteleistung. Darüber hinaus verfügt DJ-853V-8BL Diffusionsofen J2 über ein fortschrittliches Prozesskontrollwerkzeug, mit dem Anwender anspruchsvolle Diffusionsrezepte mit hoher Flexibilität und Anpassung definieren und ausführen können. Die Prozesssteuerungskomponente ermöglicht die präzise Taktung von Gasfluss, Temperaturrampen und anderen Parametern, so dass Benutzer den Diffusionsprozess auf spezifische Anforderungen abstimmen und optimale Ergebnisse erzielen können. Insgesamt ist KOKUSAI DJ-853V-8BL J2 Diffusionsofen eine hochmoderne thermische Verarbeitungsanlage, die fortschrittliche Fähigkeiten zum Diffundieren von Dotierstoffen in Siliziumscheiben mit hoher Präzision und Effizienz bietet. Mit seiner robusten Konstruktion, der präzisen Temperaturregelung, dem Gasfördermodell und den fortschrittlichen Prozesskontrollfunktionen eignet sich der Diffusionsofen gut für anspruchsvolle Halbleiterherstellungsanwendungen, bei denen präzise und wiederholbare Diffusionsprozesse von größter Bedeutung sind.
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