Gebraucht KOKUSAI Quixace II ALD High-k #9196072 zu verkaufen

KOKUSAI Quixace II ALD High-k ist ein hochmoderner Atomic Layer Deposition (ALD) Diffusionsofen, der für das Wachstum von dünnen Schichten mit Hochtemperatur und hochauflösender Prozesssteuerung verwendet werden kann. Es kombiniert benutzerfreundliche Funktionen wie eine hochpräzise Temperaturregeleinrichtung mit einer effizienten und zuverlässigen Quelle für Heißgas und einem stabilen Werkstückfutter. Ein besonderes Merkmal dieses Ofens ist sein zweistufiges Reaktantfördersystem, das die Lieferung großer Fraktionen von Reaktanden mit ausgezeichneter Genauigkeit ermöglicht. Die Reaktantenliefereinheit ist hochkonfigurierbar und kann an eine Reihe von Abscheideanwendungen angepasst werden, was dies zu einem unglaublich vielseitigen Gerät macht. Diese Maschine wird auch mit einer Reihe von Zubehör geliefert, um ihre Fähigkeiten weiter zu verbessern und sicherzustellen, dass sie den Anforderungen des Benutzers entspricht. Dazu gehört ein Gas-Flow-Tool zur präzisen Temperaturregelung sowie ein programmierbarer Logikcomputer, der eine individuelle Anpassung und stärkere Steuerung des ALD-Prozesses bei höheren Temperaturen ermöglicht. Der Ofen verfügt auch über eine Reihe von Sicherheitsfunktionen, einschließlich Druck- und Temperaturüberwachung sowie Übertemperaturabschaltung. Quixace II ALD High-k Diffusionsofen wurde entwickelt, um zuverlässig unter einer Reihe von Prozessbedingungen zu arbeiten, mit dem Fokus auf konsistente und präzise Ergebnisse zu liefern. Die Anlage wurde speziell entworfen, um eine Vielzahl von dielektrischen Materialien hoher K wie HfO2, ZrO2 und Al2O3 mit einer präzisen Schichtdicke-Gleichmäßigkeit genau abzuscheiden. Darüber hinaus ist KOKUSAI Quixace II ALD High-k in der Lage, den gesamten ALD-Prozess zu steuern und Inkongruenzen in der Oberfläche der abgeschiedenen Folie dank seines zweistufigen Reaktantenliefermodells zu vermeiden. Darüber hinaus trägt die gleichmäßige Wärmeverteilung dieses Geräts dazu bei, Reaktionszeiten zu reduzieren und eine zuverlässige Abscheiderate zu gewährleisten. Schließlich ist das System mit einer automatisierten Hardware-Diagnose ausgestattet, die den Anwendern sofortiges Feedback zu Prozessparametern gibt und es ihnen ermöglicht, ihre Prozesse zu optimieren und bei Bedarf Anpassungen vorzunehmen. Quixace II ALD High-k ist ein fortschrittlicher Diffusionsofen, der eine vielseitige, benutzerfreundliche und zuverlässige Plattform für das Wachstum von dünnen Schichten bietet. Es ist mit einer Reihe von Funktionen und Zubehör wie einer zweistufigen Reaktantenliefereinheit, einer Gasströmungsmaschine und einem programmierbaren Logikcomputer ausgestattet, die alle helfen, konsistente und präzise Ergebnisse zu liefern. Dieses Gerät ist eine ideale Wahl für diejenigen, die große fraktionierte Abscheidungsprozesse auf höchstem Temperaturniveau durchführen möchten.