Gebraucht KOKUSAI Quixace II ALD High-k #9196893 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9196893
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2012
Vertical LPCVD furnace, 12"
Model: DJ-1206VN-DF
Process: CG
System power rating: 480/120
Loading configuration: 5
System configuration:
Furnace unit
Valve box
Gas box
I/O Module
Operation box
Power box
Blower box
Currently installed
2012 vintage.
KOKUSAI Quixace II ALD ist Hoch-k ein Verbreitungsbrennofen und für Hochleistungsprozesse der Atomschichtenabsetzung (ALD) entworfenes Zubehör. Es unterstützt eine Reihe von Prozessfunktionen einschließlich plasmaverbesserter ALD und linearer Abscheidung von High-K-Filmen. Das Gerät vereint leistungsstarke Abscheidefähigkeit und Prozesssteuerung für eine effiziente ALD-Verarbeitung. Die High-K-Version des ALD-Ofens Quixace II kombiniert Plasma und thermische Abscheidung zu hochkonformen, dichten High-K-Folien mit außergewöhnlicher Gleichmäßigkeit. Die in sich geschlossene Plasmaquelle des Systems bietet hohe Energie für eine schnelle Abscheidung und hervorragende Gapfill-Leistung. Darüber hinaus sorgt die eingebaute temperaturgeregelte Kammer bei Bedarf für eine gleichmäßige Wärmeabscheidung. Quixace II ALD High-k bietet zudem eine benutzerfreundliche Bedienung mit seiner intuitiven grafischen Benutzeroberfläche. Eine dynamische Steuereinheit steuert und optimiert die Abscheideparameter automatisch entsprechend der Benutzereingabe. Darüber hinaus bietet die Maschine mehrere Wafer-Lademodi für manuelle oder Kassettenbeladung und kann mit einer externen entfernten Plasmaquelle ausgestattet werden, die Prozesse wie Vorreinigung oder RTO ermöglicht. KOKUSAI Quixace II ALD High-k verfügt zudem über ein unabhängiges Spülwerkzeug und eine korrosionsbeständige Edelstahl-Prozesskammer für verbesserte Zuverlässigkeit. Die Anlage ist mit fortschrittlichen Diagnosen ausgestattet, einschließlich eines Massendurchflussreglers, dedizierten Messgeräten, Thermoelementen, optischen Emissionsspektrometern und metalorganischen MOCVD-Massenspektrometern (Chemical Vapor Deposition). Darüber hinaus ermöglicht ein externes Hot-Wall-Design die direkte Anzeige von Wafer-Depositionen sowie einen dedizierten Remote-Monitor für eine bequeme und sichere Betrachtung. Für die fortschrittliche Prozessüberwachung bietet das Modell Quixace II ALD High-k auch eine komplette Suite digitaler Echtzeit-Messtechnik und -Steuerung. Insgesamt bietet KOKUSAI Quixace II ALD High-k Ausrüstung Hochleistungs-ALD für die Herstellung von einheitlichen High-K-Folien mit außergewöhnlicher Geschwindigkeit und Präzision. Es kombiniert fortschrittliche Technologien und eine intuitive Benutzeroberfläche für einfache Bedienung und komplexe Prozesssteuerung. Dieses leistungsstarke System bietet eine äußerst zuverlässige und benutzerfreundliche Plattform zur Steigerung der Produktivität auf dem Fertigungsboden.
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