Gebraucht KOKUSAI Quixace II CURE #9351283 zu verkaufen

KOKUSAI Quixace II CURE ist ein hochmoderner Diffusionsofen und Zubehör-Kit, ideal für Anwendungen in der Halbleiterbauelementeherstellung und Nanotechnologie Forschung und Entwicklung. Es ist für Batch-Plattenbeladung und Indexierung konzipiert, um das Be- und Entladen von Werkstücken zu erleichtern. Quixace II CURE bietet eine Vielzahl von leistungsstarken Funktionen und ist in der Lage, eine extrem präzise Temperaturgleichförmigkeit in der gesamten Kammer zu erzielen, die eine optimale Präzisionsbearbeitung wie thermische Oxidation und Siliziumdioxid-Abscheidung ermöglicht. KOKUSAI Quixace II CURE ist mit einer modularen Arbeitskammer konzipiert, die Mehrfachkassetten für einen verbesserten Produktionsdurchsatz akzeptieren kann. Der Innenraum ist aus modularen Graphitheizgeräten aufgebaut, um eine gleichmäßige Erwärmung der Kammer zu gewährleisten. Das Temperat wird durch ein digitales Auslesen überwacht, was einen automatisierten Betrieb und komplizierte Einstellsteuerungen mit dem angeschlossenen Controller ermöglicht. Das Gerät verfügt auch über Bordgasabgase, um den Aufbau von Gegendruck und Prozessatmosphäre zu steuern. Umfassende Sicherheitsmerkmale sind ebenfalls enthalten, einschließlich Drucküberwachung, Übertemperaturschutz und Alarmverriegelung für eine schnelle Notabschaltung des Systems. Quixace II CURE verfügt über eine einseitige Aschekammer als Zubehör-Option mit einer siliziumdioxidbeschichteten Quarzplatte zur einfachen Reinigung und Entfernung von Rückständen. Die Aschekammer wird unter Druck gesetzt, um sowohl die Kammer als auch das Werkstück vor dem Aschevorgang zu schützen, und sie ist darauf ausgelegt, die Gleichmäßigkeit zu maximieren und Verzerrungen zu verhindern. Es handelt sich um eine effiziente Gasampullen-Ladeeinheit und die Komponenten sind darauf ausgelegt, Berührungspunkte zu minimieren und manuell bewegliche Teilsystemkomponenten zu reduzieren. KOKUSAI Quixace II CURE ist eine ideale Wahl, wenn Präzisionsbearbeitung und gleichmäßiges Erwärmen erforderlich sind. Es ist sehr vorteilhaft für die Schaffung komplexer Strukturen für Nanotechnologie F&E, sowie Halbleiterbauelementherstellung. Es ist eine extrem präzise Maschine, und seine Temperaturgleichmäßigkeit und Sicherheitsmerkmale machen es zu einer vorrangigen Wahl für jede Anwendung, die präzise thermische Prozesse erfordert.