Gebraucht KOKUSAI Quixace II #9384019 zu verkaufen
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KOKUSAI Quixace II ist ein Diffusionsofen und Zubehör für Halbleiterprozesse. Das System verfügt über erweiterte Diffusionsverarbeitungsfunktionen, die eine hochleistungsfähige, hochpräzise Verarbeitung für optoelektronische Materialien und Geräte bieten. Es bietet auch eine Vielzahl von Ofenanwendungen und Zubehör, um den Anforderungen unterschiedlicher Verarbeitungsanforderungen gerecht zu werden. KOKUSAI QUIXACE-II Diffusionsofen ist entworfen, um schnelle thermische Verarbeitung mit hoher Genauigkeit und ausgezeichneter Temperatureinheitlichkeit zu bieten. Es ist ein digitaler Multifunktionsofen, der eine Vielzahl von Verarbeitungsmodi wie Einbarriere, Mehrbarriere, schnelle und langsame Kühlung und feste Temperatur mit Heizzeiten bis zu 10 Sekunden unterstützt. Das Gerät unterstützt programmierbare Temperaturpläne sowie den manuellen Ofenbetrieb. Die Maschine ist vollständig versiegelt und gewährleistet eine saubere Umgebung für die Diffusionsbearbeitung. Das Werkzeug umfasst eine Vielzahl von Zubehör wie elektrische Heizgeräte, Quarztiegel, Temperatursensoren, Timer, Kühlventilatoren und mehr zur Temperaturregelung oder Einstellung der Bearbeitungsbedingungen. Mit diesem Zubehör kann der Diffusionsofen für eine Vielzahl von Anwendungen wie Oxidationspassivierung, Verunreinigungsdoping, Bordiffusion und Rekristallisation verwendet werden. Quixace II Diffusionsofen verfügt auch über Sicherheitsmerkmale wie Übertemperaturregelung, Temperaturstabilisatoren und Sperrsteuerung. Es wurde entwickelt, um eine sichere und zuverlässige Umgebung für die Halbleiterverarbeitung zu bieten. Die Anlage ist auch mit einer Reihe von Substraten kompatibel, darunter Silizium, Galliumarsenid, Indiumphosphid und andere optoelektronische Materialien. Es liefert ausgezeichnete Ergebnisse bei gleichmäßigen Konzentrations- und Prozessbedingungen, wodurch es in der Lage ist, Hochleistungs-Halbleiterbauelemente herzustellen. Insgesamt ist QUIXACE-II Diffusionsofen ein hochmodernes Modell, das erweiterte Verarbeitungsfunktionen, Sicherheitsmerkmale und hervorragende Leistung für Halbleiterprozesse bietet. Seine fortschrittlichen Eigenschaften, Zubehör und zuverlässige Leistung machen es zur idealen Ausrüstung für eine breite Palette von Halbleiteranwendungen.
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