Gebraucht KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2 #9208965 zu verkaufen

KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2 ist ein fortschrittlicher Diffusionsofen mit Zubehör speziell für die atomare Schichtabscheidung (ALD) von Siliziumdioxid (SiO2) dünnen Filmen. Dieses Gerät bietet ein zuverlässiges und wiederholbares Verfahren zur Abscheidung hochwertiger, dielektrischer Dünnschichten auf einer Reihe von Substraten. Der Diffusionsofen umfasst eine Hochtemperaturkammer mit einer Reihe von Temperatureinstellungen und einen Dreharm zur gleichmäßigen Verdampfung von Material sowie ein eingebautes Gasfördersystem, das eine präzise Steuerung von Strömung und Druck ermöglicht. Das Zubehörset liefert alle notwendigen Komponenten für effiziente ALD von SiO2, wie eine Aluminiumoxid-Reaktionskammer, Waferhalter, Quarztiegel und Temperatursensoren. Darüber hinaus umfasst die Ultimate ALD SiO2 Einheit detaillierte Prozessparameter und Rezepte sowie Unterstützung für manuelle Bedienung, die eine vollständige Kontrolle über den ALD-Prozess ermöglicht. Der Quarztiegel ermöglicht es dem Anwender, Filme mit ausgezeichneter Homogenität abzulegen und liefert konsistente Ergebnisse von Wafer zu Wafer. Der Waferhalter und die strukturierten Körbe sorgen für eine gleichmäßige Zufuhr während der Verdampfungsprozesse und gewährleisten eine gleichmäßige Materialabscheidung über die gesamte Oberfläche des Substrats. Die Aluminiumoxid-Reaktionskammer sorgt für eine automatisierte Belichtung mit dem gewünschten Gasgemisch für den ALD-Prozess, wodurch ein hochwertiger Dünnfilm auf Siliciumdioxidbasis entsteht. Der Druck, die Temperatur und das Gasgemisch können alle mit den empfindlichen Kontrollen der Maschine eingestellt werden, was die Optimierung der Filmeigenschaften und des Durchsatzes ermöglicht. Quixace Ultimate ALD SiO2-Werkzeug erfüllt die Anforderungen von Labor- und Produktionsanwendungen. Selbst in den anspruchsvollsten industriellen Anwendungen bietet das Ultimate ALD SiO2 Asset eine hohe Wiederholbarkeit, ausgezeichnete Prozesskontrolle und volle Kontrolle über den Abscheideprozess. Kombiniert mit seinen umfassenden Sicherheitsmerkmalen ist das Ultimate ALD SiO2 Modell eine ideale Wahl für diejenigen, die eine effiziente, kostengünstige Methode der Abscheidung von dielektrischen Dünnschichten suchen.