Gebraucht KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2 #9372767 zu verkaufen

KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2
ID: 9372767
Wafergröße: 12"
Vertical diffusion furnaces, 12".
KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2 ist ein fortgeschrittener Atomschichtabscheideofen (ALD), der entwickelt wurde, um ultradünne Filme aus Siliziumdioxid (SiO2) für eine Vielzahl von Anwendungen abzuscheiden. Es ist gut geeignet für Kunden, die hochwertige dünne Folien, hohe Produktivität und ausgezeichnete Gleichmäßigkeit benötigen. Dieses Gerät ist eine ideale Wahl für Halbleiter, MEMS, Photovoltaik, Mikrofluidik und Anzeigegeräte. Quixace Ultimate ALD SiO2 ist mit einem hochmodernen Mehrzonenkammerdesign ausgestattet, das eine präzise und gleichmäßige Temperaturregelung über den Abscheidungsbereich ermöglicht. Dies gewährleistet eine hohe gleichmäßige Schichtdicke über das Substrat, auch bei Verwendung von Materialien, die sich in ihrer Reaktivität stark unterscheiden. Das System verfügt auch über spezielle Einlass- und Auslasspositionen, die Spülzeit und Kammerdruck steuern. Diese Eigenschaften ermöglichen es der Einheit, Wasserstoff und Vorläufer auf Chlorbasis mit schneller Rückgewinnungszeit und geringer Methanabscheidung zu handhaben. KOKUSAI Quixace Ultimative ALD SiO2 Maschine verfügt über eine hervorragende Gleichmäßigkeit von Sub-7 nm Stärke über große Wafer. Es nutzt auch 400 Hz Frequenz für längere Abscheidungszeit, so dass es einen höheren Durchsatz im Vergleich zu anderen Systemen. Darüber hinaus hat es genügend Platz, um große Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 8 "aufzunehmen. Damit eignet es sich für die Großserienfertigung von Geräten auf Großsubstraten. Die selbstoptimierenden Prozesssteuerungsfunktionen des Quixace bieten Anwendern Echtzeit-Daten und Feedback zu Prozessparametern und sorgen für konsistente hochwertige Filme. Dieses Werkzeug ist auch entworfen, um die Leckage von gefährlichen Gasen zu minimieren, Umweltverschmutzung zu verhindern und die Bedienersicherheit zu schützen. Neben Quixace Ultimate ALD SiO2 Asset bietet KOKUSAI auch eine Reihe optionaler Add-ons an. Dazu gehören Zubehör wie ein Pyrometer, Quarzkassette und Substrathalter, HF-Stromversorgung, ein ionisierender Spannungsgenerator und ein rotierender Substrathalter. Zusammen bieten diese Anwendern eine umfassende Lösung, die den Anforderungen jeder ALD-Anwendung entspricht. KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2 ist ein fortschrittliches Produkt und das beste Modell seiner Klasse. Es wurde entwickelt, um Anwendern zuverlässige und hocheffiziente ALD-Abscheidungsprozesse zu bieten. Es ist eine gute Wahl für Kunden, die hochwertige dünne Folien mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und schneller Abscheidezeit benötigen. Komplett mit seinen optionalen Add-ons, Quixace Ultimate ALD SiO2 ist perfekt für jede erweiterte ALD-Anwendung.
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