Gebraucht KOKUSAI Quixace Ultimate #9121959 zu verkaufen

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ID: 9121959
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2012
Vertical diffusion furnace, 12" For BCD ULT SiO2, 125WLS Dual boat service 2012 vintage.
KOKUSAI Quixace Ultimate ist ein fortschrittliches Diffusionsofengerät und Zubehör, das in der fortschrittlichen Halbleiterverarbeitung verwendet wird. Das System ist mit hochrangigen thermischen Gleichmäßigkeitsregelungen und Heizelementen ausgestattet, die die unterschiedlichsten Temperatureinstellungen für Produktionsscheiben ermöglichen. Die fortschrittlichen Prozesssteuerungen bieten zuverlässige Wafer-Gleichmäßigkeit für dotierte, undotierte oder schwer verarbeitbare Silizium-Materialien. Die Einheit verfügt über überlegene Temperatur Gleichmäßigkeit und Heizelemente für die Verarbeitung verschiedener Arten von Materialien wie monokristalline, multikristalline und Strained Silicon. Die Maschine verfügt über zwei Ofenkammern: eine große Kammer für Voranoisierungsprozesse und eine Mehrzonenkammer für diffundierende Implantate mit einer Vielzahl von Temperatureinstellungen bis 1100 ° C. Das Ofen-Tool bietet fortschrittliche Prozessleistung, einschließlich hoher Durchsatz und Durchsatz Gleichmäßigkeit. Die Anlage ist mit einem API-Gassteuerungsmodell für hohe Gasdurchflussraten versiegelt, das ultrakurze thermische Zyklen ermöglicht. Dieses Gerät bietet auch eine fortschrittliche Temperaturrückkopplungssteuerung, präzise räumliche Gleichmäßigkeit und Prozessoptimierung. Ein weiterer Vorteil dieses Systems ist eine geringe thermische Beanspruchung während des Diffusionsprozesses aufgrund der engen Toleranz der Siliziumheizelemente und der fehlenden Wärmedämmung. Die Ofeneinheit wird mit fortschrittlicher proprietärer Prozesssoftware überwacht und gesteuert und bietet eine Echtzeit-Prozessüberwachung für die Produktionsverfolgung und Qualitätskontrolle. Die Software kann auch zur Prozessoptimierung für höhere Erträge und bessere Prozessleistung eingesetzt werden. Quixace Ultimate Maschine ist eine ideale Wahl für die Halbleiterverarbeitung, insbesondere für erweiterte Diffusionsofenverarbeitung. Es wurde entwickelt, um eine überlegene Temperaturregelung und verbesserte Gleichmäßigkeit mit einer breiten Palette von Temperatur-Settimgs für viele Arten von Materialien zu bieten. Mit seiner fortschrittlichen Prozesssteuerung, einem großen Temperaturbereich und einem hohen Durchsatz ist KOKUSAI Quixace Ultimate eine ideale Wahl für die Halbleiterproduktion.
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