Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON A303i #293667428 zu verkaufen
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ID: 293667428
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2004
Vertical diffusion furnace, 12"
LTO Poly
Process: DIFF
Gasses: SIH4, SI2H6, 1% PH3/N2, LTO520, CLF3
(2) Load ports
Loader arm
Transfer arm
FUJIKIN Gas box
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
Missing parts:
Part number / Description:
Q400-183245 / VAC Line 1
Q400-161162 / VAC Line 2
Q230-021126 / Turn table
Q400-252325 / Flange
Q310-260595 / Outer guide ring
Q460-006564 / Support in ring
(3) Q320-082547 / MFC 16 Board
(4) Q320-060982 / DIO-I/F Board
Q320-083478 / DIO-ILK Board
Q320-072066 / GSR03 Board
Q320-162843 / MC-31255 Board
Q230-133460 / Wafer transfer
Q320-139834 / Board-control
Q400-236002 / Sol valve
Q310-230827 / Fork 1
Q310-230826 / Fork 2
Q310-125642 / Fork 3
Q310-230825 / Fork 4
Q310-230824 / Fork 5
Operating system: Linux
Power supply: 208 V
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON A303i Diffusionsofen ist eine vollautomatische thermische Diffusionsanlage mit integriertem Zubehör. Es wurde entwickelt, um höchste Qualität und Erträge in Halbleiterproduktionsprozessen zu liefern. TEL A303i umfasst eine leistungsstarke Abscheidekammer, die einen effizienten und zuverlässigen thermischen Diffusionsprozess bietet. Es verwendet Rapid Thermal Processing (RTP), um das Diffusionsprozessgas schnell zu erhitzen, um über eine voreingestellte Temperatur zu steigen, was einen gleichmäßigen und stark wiederholbaren thermischen Diffusionsprozess bietet. Die Ausgasungsgeschwindigkeit ist ebenfalls einstellbar, was präzise Dotierungskonzentrationen und eine präzise Steuerung des Diffusionsprozesses ermöglicht. Das System umfasst automatische Rollläden für den Stickstoff- und Prozessgaseintrag sowie ein In-situ-Degas- und Abkühlverfahren. Der gesamte Prozess wird kontinuierlich von einer Computersteuerkammer überwacht, um einen sicheren und sicheren Betrieb zu gewährleisten. TOKYO ELECTRON A 303 I verfügt auch über eine eingebaute chemische Dampfabscheidungskammer (CVD). Die CVD-Kammer besteht aus einer Induktionseinheit zum Einbringen von Silizium- und Germaniumquellen in die Abscheidungszone. Es verfügt auch über mehrere Abscheidungsquellen, um eine gleichmäßige Abscheidung über weite Bereiche sowie gleichmäßige Dotierungsprofile von der Quelle bis zum Ziel bereitzustellen. Die induzierten Magnetfelder sorgen für Gleichmäßigkeit und ermöglichen eine präzise Kontrolle der Abscheidungsparameter für optimale Leistung. A303i ist auch mit einer Messtechnik-Plattform zur zerstörungsfreien Prozesskennzeichnung in der Kammer ausgestattet. Es umfasst bordseitige Funktionen wie Drucksensor, Gaspanel, Temperaturpanel und digitale Videokamera sowie eine Inspektionsplatte für die Kammeranalyse. Dies ermöglicht eine genaue Messung und Analyse von Substratparametern und Prozessschritten. TEL/TOKYO ELECTRON A 303 I Maschine bietet auch eine Vielzahl von Zubehör und Muster Lademöglichkeiten. Es kann konfiguriert werden, um 100mm bis 300mm Wafer sowie 200mm bis 400mm Flachplatten aufzunehmen. Diese Konfiguration ermöglicht maximale Flexibilität für verschiedenste Produktionsanforderungen und Anwendungen. A 303 I ist eine ideale Lösung für die Produktion von Großserien und Prototypen und bietet ein effizientes und zuverlässiges Werkzeug für eine effektive thermische Diffusion. Mit seinen integrierten Funktionen und Zubehör ist TEL A 303 I die perfekte Lösung für Halbleiterproduktionsprozesse.
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