Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON A303i #9261571 zu verkaufen

TEL (TOKYO ELECTRON) TEL/TOKYO ELECTRON A303i Diffusionsofen ist ein spezialisiertes Halbleiterherstellungswerkzeug zur Abscheidung von epitaktischen Schichten auf Siliziumsubstraten. Es wird häufig von Chipherstellern bei der Herstellung von Mikroprozessoren und anderen elektronischen Komponenten verwendet. TEL A303i hat eine thermische Hochtemperaturkammer, die von einem hitzebeständigen keramischen Heizpaneel umschlossen ist. Innerhalb der thermischen Kammer wird ein beheizter Tiegel verwendet, um das abgeschiedene Material zu diffundieren. Das Substrat wird in den Kern der thermischen Kammer gelegt und durch die keramische Heizplatte gleichmäßig erwärmt. Darüber hinaus ermöglicht die Mehrzonen-Temperaturregelung eine gleichmäßige Temperatur und Stabilität auf der gesamten Substratoberfläche. Der Temperaturbereich von TOKYO ELECTRON A 303 I beträgt 300-1400 ° C und die Temperatur kann innerhalb von ± 1 ° C gesteuert werden. TEL/TOKYO ELECTRON A 303 I verfügt auch über einen eingebauten automatischen Massenstromregler (MFC), der eine präzise Zuführung der Reaktantgase zum beheizten Tiegel ermöglicht. Das MFC regelt die Menge des der Kammer zugeführten Reaktantgases und sorgt für Wiederholbarkeit und Genauigkeit im epitaktischen Schichtabscheidungsprozess. Zusätzlich kann mit der eingebauten Vakuumpumpe der Druck innerhalb der Kammer genau gesteuert werden. Um einen gleichmäßigen und qualitativ hochwertigen epitaktischen Schichtabscheidungsprozess zu gewährleisten, ist TOKYO ELECTRON A303i mit einer fortschrittlichen Gasduschausrüstung ausgestattet. Dieses System besteht aus zwei unabhängigen Gasleitungen mit einstellbaren Duschdrücken. Dadurch wird eine gleichmäßige Schichtdicke und gleichmäßige Gasverteilung über das Substrat gewährleistet. Darüber hinaus ist A 303 I mit mehreren Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, wie Übertemperatur- und Überdruckalarme. Es enthält auch eine Echtzeit-Überwachungseinheit, die Leistungsdaten über den Abscheidungsprozess einschließlich Gasfluss und Temperatur liefert. Diese Funktion ermöglicht eine bessere Prozesssteuerung und -regelung. Zusammenfassend ist TEL A 303 I Diffusionsofen ein spezialisiertes Halbleiterherstellungswerkzeug, das zur Herstellung hochwertiger Epitaxieschichten auf Siliziumsubstraten geeignet ist. Es ist mit einer fortschrittlichen Gasduschmaschine und Mehrzonen-Temperaturkontrollfunktion ausgestattet, die präzise und wiederholbare Schichtabscheidungsprozesse ermöglicht. Darüber hinaus sorgen die eingebauten Sicherheitsfunktionen für maximale Sicherheit der Anwender.