Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-H #9097235 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-H
ID: 9097235
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2001
D-Poly furnace, 12", 2001 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-H Diffusionsofen und Zubehör ist ein fortschrittlicher Satz von Werkzeugen und Ausrüstungen entworfen, um die härtesten Anforderungen der Halbleiterindustrie zu erfüllen. Der Ofen besteht aus einer Edelstahlkammer mit einer maximalen Betriebstemperatur von 1250 ° C und einer Kammerdeckentemperatur von 1100 ° C. Es ist mit einer doppelwandigen Konstruktion konstruiert und ist mit einem austauschbaren Liner für einfache Wartung und hervorragende Ergebnisse ausgestattet. Die automatisierte Steuerungsausrüstung sowie die fortschrittliche Prozessregelungstechnologie bieten überlegene Temperaturgleichmäßigkeit und schnelle Zykluszeiten. Das Gerät kommt auch mit hochpräziser Gassteuerung, Lastschloss-Waferkassetten und TEL Lam Molecular Beam Embedder, um eine noch bessere Prozesssteuerung zu bieten. Diese leistungsstarke Kombination von Bauelementen sorgt für eine hochentwickelte Lösung für die heutige Entwicklung von Halbleiterbauelementen. TEL Alpha 303i-H Ofen wird mit fortschrittlichen Diagnose- und Sicherheitsfunktionen geliefert, die es ermöglichen, mit dem Benutzer zu kommunizieren und detaillierte Informationen über den Systembetrieb bereitzustellen. Dies hilft auch bei der Fehlerbehebung und Wartung und bietet Benutzern ein größeres Maß an Kontrolle. Die benutzerfreundliche grafische Oberfläche bietet einfachen Zugriff auf Einheitenparameter und hilft, einen korrekten Maschinenbetrieb zu gewährleisten. Der Verbreitungsbrennofen schließt auch eine Quarzrohrheizung, eine automatable Kontrolle der Temperatur/Drucks, Wolfram widerspenstige Heizungselemente, ein ermüdendes Werkzeug ein, und Hochleistungszwillingszonengasmasse überflutet Kontrolleure. Diese zusätzlichen Komponenten bieten ein komplettes Paket für einen erfolgreichen und effizienten thermisch verwalteten Prozess. TOKYO ELECTRON Alpha 303i-H Asset bietet eine breite Palette von Materialbearbeitungsfähigkeiten, einschließlich der Fähigkeit, Substrate sowohl für die CU-BO-Oberflächenveredelung als auch für den Nitridprozess zu verarbeiten. Der Diffusionsofen kann mit mehreren Motoren hoher Dichte/niedriger Drift ausgestattet werden, die eine hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit mit variabler Geschwindigkeitsregelung und Echtzeit-Überwachungsfunktionen bieten. Alpha 303i-H Modell enthält auch einen eingebauten Gaskasten, der eine abgedichtete Atmosphäre für eine gleichmäßige Diffusion von Gasmolekülen auf dem Zielsubstrat schafft. Dadurch wird eine genaue, wiederholbare und geringe Toleranzdiffusion von Gasen auf dem Substrat gewährleistet. TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-H Ausrüstung ist eine intelligente Lösung für die heutigen komplexen Halbleiterbauelementproduktionsprozesse. Das fortschrittliche Design, der Funktionsumfang und die Benutzerfreundlichkeit kombinieren, um den Anwendern die bestmögliche Lösung für jede moderne Produktionsumgebung für Halbleiterbauelemente zu bieten.
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