Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-H #9097239 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-H
ID: 9097239
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2002
MTO Furnace, 12", 2002 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-H ist eine der fortschrittlichsten Halbleiterscheiben, die Diffusionsöfen auf dem Markt verarbeiten. Diese Vier-Substrat-Ofen-Ausrüstung integriert innovative, fortschrittliche Designs und anpassbare Einstellungen, um hochwertige Wafering und überlegene Wafer Gleichmäßigkeit zu bieten. TEL Alpha 303i-H ist mit mehreren Ladeanschlüssen und einer obsidianischen Logiksteuerung ausgestattet, um die Temperaturen des Kernofens in den Lade- und Entladezonen automatisch zu überwachen und anzupassen. Darüber hinaus ermöglicht das einzigartige Design von TOKYO ELECTRON Alpha 303i-H eine längere Lebensdauer der Heizung, eine erhöhte Dampf- und Gasreinheit, eine verbesserte Wafer-Gleichmäßigkeit, eine präzise Temperaturregelung und ein schnelles, effizientes Be- und Entladen von Substraten. Alpha 303i-H ist mit einem einzigartigen, integrierten Gasmanagementsystem konzipiert, das Reinheit und Gasverwendungseffizienz maximiert. Es verfügt über fortschrittliche Ventile und Lüftungsöffnungen zur Reduzierung von Abgasverlusten, erweiterbare Spülzeiten, einstellbare Durchfluss- und Druckeinstellungen und eine geschlossene Kammereinheit für erhöhte thermische Gleichmäßigkeit. Diese Maschine enthält auch einen Vakuumschalter, einen Datenanschluss und eine aktive Wasserstrahlpumpe, um reduzierte Temperaturschwankungen, höhere Reinheit und Gleichmäßigkeit sowie eine konsistente Dampfbelastung in der Temperaturgleichförmigkeitskammer sicherzustellen. TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-H ist mit dem fortschrittlichen TEL PowerWaferII-Wafer-Transportwerkzeug ausgestattet, das ein hochpräzises Be- und Entladen von Substraten gewährleistet. Diese Anlage ermöglicht individuelle Operationen in jedem Hafen und ist so konzipiert, dass Wafer-Falloff und Partikelverunreinigungen minimiert werden. Der PowerWaferII umfasst ein ACC-Modell (Automatic Contamination Control) und abgedichtete Unteranschlüsse, um die Schichtverschmutzung zu minimieren und eine maximale Waferstabilität zu gewährleisten. TEL Alpha 303i-H läuft auch auf TOKYO ELECTRON proprietärer, benutzerfreundlicher MGC-25 Platform, die ihre flexiblen Programmiermöglichkeiten hervorhebt. Diese Plattform ermöglicht anpassbare Einstellungen, vorprogrammierte Funktionen und automatisierte Operationen, sodass Benutzer Diffusionsprozesse schnell konfigurieren, ändern und überwachen können. Insgesamt bietet TOKYO ELECTRON Alpha 303i-H Diffusionsofen ein fortschrittliches modulares Design, eine optimierte Gasmanagementausrüstung, ein proprietäres PowerWaferII-Wafer-Transportsystem und eine benutzerfreundliche MGC-25 Platform, um eine überlegene Wafer-Gleichmäßigkeit und langlebige Leistung zu erreichen. Alpha 303i-H ist ein zuverlässiger und zuverlässiger Diffusionsofen für eine Vielzahl von Halbleiterwaferbearbeitungsanwendungen.
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