Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-H #9394974 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-H
ID: 9394974
Wafergröße: 12"
Furnace, 12" MTO.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-H ist ein Diffusionsofen und Zubehör für fortgeschrittene Verarbeitungsanwendungen in der Halbleiter- und MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems) -Herstellung. Das Gerät verfügt über einen Ultra-Hochtemperatur-Seitenwandgaseinlaß/-auslaß mit 600 ° C-Grenze sowie eine kostengünstige, zuverlässige und energieeffiziente Option zur Gasverteilung für schnelle Heiz- und Kühlraten. Der Ofen ist mit einem fortschrittlichen Multi-Zone, Multi-Atmosphäre, aktive Temperaturüberwachung/Steuerung ausgestattet. TEL Alpha 303i-H hat eine maximale Substratgröße von 40mm2 und bietet eine hervorragende thermische Homogenität und Gleichmäßigkeit mit einer Schwankung von 0,2 ° C im Bereich von -20 bis 1200 ° C. Dadurch wird eine Minimierung der thermischen Beanspruchung und Gleichmäßigkeit über den gesamten Temperaturbereich bei minimalem thermischen Gradienten über das Substrat gewährleistet. Das Gerät hat auch eine niedrige Oberflächentemperatur von bis zu 300 ° C und Leistungseinsparfunktionen wie eine selektive optische Lecksuchmaschine mit langer Wellenlänge, um unnötige Verluste von seltenem und teurem Prozessgas zu vermeiden. TOKYO ELECTRON Alpha 303i-H verfügt auch über ein fortschrittliches aktives Temperaturüberwachungs-/Steuerwerkzeug mit unabhängigen Programmierzeiten und Mehrzonenregler mit Eintemperatur bis zu Acht-Zonen-Regelbedingungen. Es enthält auch einen großen Computer mit einer Vielzahl von erweiterten Funktionen wie Kundenverlaufsprotokoll, Benutzer-Setup-Modus, Ereignisprotokoll, Kammer-Überwachung, benutzerdefinierte Set-Point-Steuerung, Prozessdatensammlung und Liste-Datei-Fähigkeit und Multi-Tasking-Datenerfassung. Es bietet auch eine Alarm-Asset-Warnung für alle Temperaturschwankungen und/oder Prozessprobleme, die es Benutzern ermöglicht, unerwartete Ereignisse im Prozess zu adressieren. Das Modell verfügt auch über erweiterte Sicherheitsfunktionen wie Niedergasdruckabschaltung, Strahlungsdetektion, Gasleckageerkennung, Notabschaltung und Abgassteuerungssysteme. Es verfügt auch über eine fortschrittliche Kühlausrüstung zum Schutz vor Temperaturüberschuss, wenn eine schnelle Kühlung auftritt, sowie eine programmierbare Kühlung nach Abschluss des Prozesses, um die Kammer richtig zu kühlen und Energie zu sparen. Insgesamt ist Alpha 303i-H ein effizienter und zuverlässiger Diffusionsofen und Zubehör für fortschrittliche Verarbeitungsanwendungen in der Halbleiter- und MEMS-Fertigung, mit einer Reihe von Funktionen, die sowohl für Sicherheit als auch für Genauigkeit entwickelt wurden.
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