Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVC #9381849 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVC ist ein Diffusionsofen für die Herstellung kritischer Halbleiterbauelemente und damit verbundene Dienstleistungen. TEL Alpha 303i-KVC wurde für den Betrieb in Hochvakuumumgebungen entwickelt und verwendet fortschrittliche Gasmanagementtechniken, um die Oxidverschmutzung zu minimieren. Der Ofen verfügt über ein hocheffizientes Kaltwanddesign, mit einer inneren Wolframhülle und einem erweiterten Oriel-Schild für den Fokus auf gleichmäßiges Temperaturgefälle, während der Partikelverlust reduziert wird. Die innere Wolframhülle sorgt auch für überlegene Temperaturgleichmäßigkeit bei minimalen Temperaturschwankungen von einer Zone zur anderen, was für präzise kontrollierte Diffusionsbehandlungen von Vorteil ist. Das geschmolzene Siliciumdioxidrohr-Merkmal des Ofendesigns hilft, eine ausgezeichnete Prozessgasdurchflusssteuerung für eine hochwertige Verarbeitungsumgebung zu gewährleisten. TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVC ist auch entworfen, um eine effiziente Source & Drain-Evakuierung bereitzustellen, die für einen ununterbrochenen Materialfluss sorgt, um Oxidation zu verhindern, wodurch die Geräteausbeute verbessert wird. Um sicherzustellen, dass der extrem hohe Quell- und Ablaufdruck aufrechterhalten wird, verfügt die Kammer über eine digitale Druck- und Strömungssteuerung mit einer Auswahl an Ein-/Auslassdrücken im Bereich von 5 bis 250 Millitorr. Darüber hinaus enthält Alpha 303i-KVC einen CVD-toleranten AMAT™ Wrap-Around-Suszeptor-Support, der sich ideal für CVD/ALD-Anwendungen eignet und die Wartung der Kammer durch Unterdrückung von Partikelbedenken reduziert. Der CVD-tolerante Wrap-Around-Suszeptor hilft auch, die Gleichmäßigkeit von Filmabscheidung und Ätzergebnissen zu verbessern. Das fortschrittliche Prozessleitsystem sorgt für konsistente Behandlungen in wiederholbaren Prozessen und einfach zu bedienende programmierbare Funktionen für Ein- und Mehrschichtanwendungen. Um eine optimale Prozessqualität und wiederholbare Prozessergebnisse zu gewährleisten, wurde TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-KVC entwickelt, um eine fortschrittliche Diagnose und Überwachung einschließlich Echtzeit- und Nachprozessüberwachung über eine geschlossene Druckregelung und Lastsequenzierung einzubeziehen. Die Prozesssteuerung umfasst auch die Datenerfassung sowohl von Wafer-Level als auch von Prozessparametern für umfangreiche Reporting & Analyse. Insgesamt ist TEL Alpha 303i-KVC ein idealer Diffusionsofen für die Herstellung kritischer Halbleiterbauelemente und damit verbundene Dienstleistungen und bietet eine fortschrittliche Verarbeitungsumgebung für konsistente und wiederholbare Ergebnisse.