Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #293592993 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i ist ein Diffusionsofen und zugehöriges Zubehör, das eine Vielzahl von Halbleiterverarbeitungsaufgaben durchführen kann. Mit Wolfram-Halogenlampen und einem Gasgemisch ist TEL ALPHA-303I in der Lage, Temperaturen bis zu 1250 ° C zu erreichen, eine beeindruckende Leistung für seine Größe. Der eingebaute Temperaturregler und der programmierbare Logikregler (SPS) ermöglichen eine präzise, maßgeschneiderte Bearbeitungstemperaturregelung. TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I ist mit einer speziellen Prozesskammer zur thermischen und chemischen Dampfabscheidung, Trichlorsilan oder Nassätzung ausgestattet. Dieses Upgrade ermöglicht das Abscheiden oder Ätzen von Silizium- oder Aluminiumverbindungen oder diamantähnlichen Kohlenstofffilmen, die elektrische und optische Eigenschaften verbessern können. TEL ALPHA 303 I bietet auch die Möglichkeit, verschiedene Metalle wie Aluminium, Silber, Nickel und Titan abzuscheiden oder zu ätzen. TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I ist auch mit einem elektrischen Stromversorgungssystem ausgestattet, das es ermöglicht, mit höheren Strom- und Spannungsniveaus als die meisten anderen Diffusionsprozesse zu arbeiten. Dies ermöglicht eine manuelle oder programmierbare Steuerung von Strom und Spannung, um schnellere Verarbeitungszeiten zu erzielen sowie die Abscheidegeschwindigkeit bei seitlichen Diffusionsprozessen zu erhöhen. Darüber hinaus kann TEL ALPHA-303 I in einer Vielzahl von Verfahren wie Ionenimplantation, Lithographie und Trockenätzen eingesetzt werden. Die hohen Temperatur- und Vakuumfähigkeiten von TOKYO ELECTRON Alpha 303i sind für diese Verfahren aufgrund der verbesserten thermischen Gleichmäßigkeit, der höheren Abscheiderate und der verringerten Verunreinigung vorteilhaft. Schließlich kann ein Single Wafer Load Lock System (SWLLS) an TOKYO ELECTRON angeschlossen werden ALPHA-303I um die Möglichkeiten des Diffusionsofens weiter zu verbessern. Dieses System ermöglicht eine schnelle, gleichmäßige Verarbeitung mehrerer Wafer mit minimaler Luftbelastung, was es zu einem großen Vorteil für Forschungs- und Entwicklungszwecke macht. Abschließend ist ALPHA 303 I Diffusionsofen ein leistungsfähiges und vielseitiges Werkzeug für die Halbleiterverarbeitung. Seine hohen Temperatur- und Vakuumfähigkeiten, gepaart mit seiner Fähigkeit, mehrere Wafer gleichzeitig zu verarbeiten, machen es zu einer attraktiven Wahl für Forschungs- und Entwicklungsprojekte.