Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #293635550 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i ist ein Diffusionsofen und sein zugehöriges Zubehör für den Prozess der Ionenimplantation. Dieses hocheffiziente Gerät verfügt über eine kurze Prozesszeit, eine verbesserte Gleichmäßigkeit der Waferoberfläche und eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit der Verteilung. TEL ALPHA-303I kann bis zu sechs Wafer gleichzeitig aufnehmen, wodurch eine große Materialmenge in kurzer Zeit verarbeitet werden kann. Der Ofen nutzt Gleichstrom (DC), um eine gleichmäßige Oberflächenkonzentration zu erzeugen und ist mit einer HF-Stromquelle ausgestattet, um die Plasmaproduktion zu reduzieren. Eine einzigartige Quarzkammerdesign wird verwendet, um die Oberflächenverunreinigung im resultierenden Wafer zu minimieren. Das einstellbare Bedienfeld ermöglicht es dem Bediener, Parameter wie die Verdampfertemperatur, die Geschwindigkeit der Diffusionsofenbelastung und die Diffusionsanfälligkeit einzustellen. TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I verfügt zudem über eine automatische Trägerkompatibilität, die den Einsatz von kompatiblen Werkzeugkits mit unterschiedlichen Waferdurchmessern ermöglicht. Durch diese Flexibilität kann eine breite Palette von Proben bearbeitet werden, ohne dass umgerüstet werden muss. Darüber hinaus ermöglicht eine intuitive Benutzeroberfläche Problemaufnahmen und andere Bedienungsaktivitäten. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I enthält auch ein spezielles Stickstoffatmosphärenmodul, das sich ideal zum Schutz empfindlicher Geräte vor Kontamination und Oxidation eignet. Das Atmosphärenmodul ermöglicht eine präzise Steuerung der Atmosphärenbedingungen und ermöglicht eine hohe Waferausbeute. Der Ofen kann sowohl im Ein- als auch im Dual-Port-Betrieb eingerichtet werden und verfügt über eine Abgasaufzeichnungseinrichtung zur Verfolgung der Ergebnisse kritischer Prozessschritte. TEL ALPHA-303 I bietet eine Vielzahl modernster Optionen für die Oberflächenbehandlung von Wafern, einschließlich anodischer Bindung, molekularer Bindung und fusionierter Abscheidung. Diese Verfahren bieten die notwendige Sauberkeit und Oberflächengüte für einen erfolgreichen Implantatprozess. Darüber hinaus steht ein Selbstdiagnosesystem zur Verfügung, um Fehler im Prozess zu erkennen und eine sofortige Korrektur zu ermöglichen. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I ein fortschrittlicher Diffusionsofen und zugehöriges Zubehör, das entwickelt wurde, um überlegene Leistung und Ergebnisse im Implantationsprozess zu liefern. Das Gerät verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche und eine Restprotokollierungseinheit, die qualitativ hochwertige Ergebnisse und kürzere Zykluszeiten ermöglicht. Die Flexibilität dieser Maschine ermöglicht die Bearbeitung mehrerer Wafer in kurzer Zeit mit insgesamt verbesserten Ergebnissen.