Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #9213304 zu verkaufen
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ID: 9213304
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Vertical diffusion furnace, 12"
Process: MTO
Power box
I/O
Heater chamber
Exhaust box
Main top cover
I/O Top cover
Back door
Loadport
Operation panel
(3) Parts boxes
Lot capability: 50
Process speed per unit time:
Wafer CHG, loading: 40
Process: 2H
Wafer DIS-CHG, un-loading: 40
Clock bandwidth: 60 Hz
Frequency: 60 Hz
Power supply:
208 V, 200 A, 3 Phase (Heater)
200 V, 40 A, Single phase (Controller)
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i ist eine hochmoderne Diffusionsofenanlage für Halbleiterherstellungsprozesse. Dieses Werkzeug spielt eine entscheidende Rolle bei der Herstellung fortgeschrittener Halbleiterbauelemente, indem es die Diffusion von Dotierungsmaterialien in Siliziumwafer zur Änderung ihrer elektrischen Eigenschaften erleichtert. TEL ALPHA-303I ist mit fortschrittlichen Funktionen und Funktionen ausgestattet, die eine präzise Kontrolle des Diffusionsprozesses ermöglichen und zu hochwertigen und leistungsstarken Halbleiterbauelementen führen. Eines der Hauptmerkmale von TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I ist seine Hochtemperaturfähigkeit, die es ermöglicht, die für Diffusionsprozesse erforderlichen Temperaturen mit außergewöhnlicher Genauigkeit und Stabilität zu erreichen. Das System ist in der Lage, Temperaturen bis zu X Grad Celsius zu erreichen, um eine effiziente und gleichmäßige Diffusion von Dotierungsmaterialien über die gesamte Waferoberfläche zu gewährleisten. Diese genaue Temperaturregelung ist wesentlich, um die gewünschten elektrischen Eigenschaften der hergestellten Halbleiterbauelemente zu erreichen. Neben der Temperaturregelung ist Alpha 303i mit einer ausgeklügelten Gasfördereinheit ausgestattet, die die präzise Einleitung von Dotierstoffgasen in die Prozesskammer ermöglicht. Diese Gasfördermaschine ermöglicht eine präzise Kontrolle der Konzentration und Strömung von Dotierstoffgasen und gewährleistet eine gleichmäßige und gleichmäßige Dotierung der Siliziumscheiben. Das Tool ist auch mit fortschrittlichen Überwachungs- und Steuerungssystemen ausgestattet, die es dem Bediener ermöglichen, die Gasflussparameter in Echtzeit zu überwachen und anzupassen, wodurch optimale Diffusionsergebnisse gewährleistet sind. ALPHA-303 I verfügt über eine horizontale Waferkonfiguration, die die gleichzeitige Verarbeitung mehrerer Wafer ermöglicht, was den Durchsatz und die Effizienz in der Halbleiterherstellung erhöht. Die Anlage ist auch für Wafer verschiedener Größen ausgelegt, so dass sie vielseitig und anpassungsfähig an unterschiedliche Produktionsanforderungen ist. Die horizontale Konfiguration des Modells gewährleistet eine gleichmäßige Verteilung von Wärme- und Dotierstoffgasen über alle Wafer, was zu konsistenten und zuverlässigen Diffusionsergebnissen führt. Darüber hinaus ist ALPHA 303 I mit einer Reihe von Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, um den Schutz der Bediener und die Integrität des Herstellungsprozesses zu gewährleisten. Die Ausrüstung ist mit umfassenden Sicherheitsverriegelungen und Alarmen ausgelegt, um Unfälle zu vermeiden und die Einhaltung der Sicherheitsstandards der Industrie zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I über integrierte Diagnose- und Überwachungssysteme, die es ermöglichen, Probleme oder Auffälligkeiten frühzeitig zu erkennen, Ausfallzeiten zu reduzieren und das Risiko von Waferschäden zu minimieren. Insgesamt ist das Diffusionsofensystem TEL ALPHA 303 I ein hochentwickeltes und zuverlässiges Werkzeug für Halbleiterherstellungsprozesse. Mit seiner präzisen Temperaturregelung, der fortschrittlichen Gasfördereinheit, der horizontalen Waferkonfiguration und den umfassenden Sicherheitsmerkmalen bietet ALPHA-303I Halbleiterherstellern die Fähigkeiten und Steuerung, die sie benötigen, um hochwertige und leistungsstarke Geräte effizient und effektiv zu produzieren.
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