Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #9251686 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i
ID: 9251686
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
LPCVD Systems, 12" 2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i ist ein hochmoderner Diffusionsofen und Zubehör, der entwickelt wurde, um High-End-Filme auf höchstem Niveau der Reinheit, Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit bereitzustellen. Es verfügt über fortschrittliche Technologie, die eine schnelle Verarbeitung einer breiten Palette von Materialien ermöglicht. TEL ALPHA-303I ist ein mehrstufiger Ofen mit einer Dreizonen-Heizeinrichtung, der es ermöglicht, tiefenreaktive Ionenätz- (DRIE) und thermische Oxidationsprozesse mit überlegener Qualität und Wiederholbarkeit bereitzustellen. TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I verwendet eine einzigartige Plasmaerzeugungskammer, die mit Sauerstoff, Stickstoff oder Silizium-Wasserstoffgas gespeist wird, um verschiedene Prozessbedingungen für eine verbesserte Gleichmäßigkeit und Reinheit zu modifizieren. Es zeigt aktive Temperatur und Druck, der Gleichförmigkeitsregelsysteme mit der Temperaturprogrammierung und den Temperaturfähigkeiten der kartografisch darstellenden beschmutzt. ALPHA-303I ist auch zu einer Vielzahl von Gasfördertechniken fähig, von zeitlich variierenden Strömungen bis hin zu genau getakteten Gasimpulsen. Mit dieser Funktion können Anwender eine präzise Filmabscheidung und Prozesskontrolle erzielen. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-303I verfügt über ein integriertes Mehrpunkt-Überwachungssystem, mit dem Benutzer Daten über zahlreiche Prozessparameter wie Druck, Temperatur, Gasfluss und Sauerstoffkonzentration in der Kammer sammeln können. Diese Daten werden verwendet, um Gleichförmigkeitszuordnungen zu erstellen oder TOOLs zu optimieren. TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I ist eine Mehrtankgasfördereinheit - der Benutzer kann auch eine Niederdruck- oder Hochdruckkonfiguration wählen, um eine förderliche Atmosphäre für verschiedene Prozesse zu schaffen. Eine Elektronenerfassungsmaschine ist ebenfalls enthalten, zusammen mit einem quarzverkleideten HF-Induktor und einer dazugehörigen HF-Stromversorgung zur Frequenzsteuerung. Auf diese Weise können Benutzer elektrostatische Beschichtungen, Sputtern und PVD-Behandlungen durchführen. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I beinhaltet auch einen Lift-Off-Prozess, sowie einen fortschrittlichen Backmodus mit Tür-Auto-Öffnung und Dach-in-out-Bewegung. Der Lift-off-Prozess kann für Wafer-Bias-Ätzen, Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD) und andere Oberflächenbehandlungen für verbesserte Folienqualität verwendet werden. Die Ofenabdeckung kann auch bis zu 20kg geladen werden, sodass Benutzer Gleichmäßigkeit erreichen und Verzerrungsprobleme vermeiden können. Darüber hinaus enthält TEL ALPHA 303 I ein chemisches Endpunktdetektionswerkzeug für die chemische Reinigung und ist mit einem 400 mm Gleichförmigkeits-Mapping ausgestattet. So können Anwender eine stabile Prozesssteuerung gewährleisten und präzise Batch-Prozessdaten erhalten. Darüber hinaus ist Alpha 303i mit einer speziellen niederohmigen keramischen Oberfläche beschichtet, die höchste Präzision, Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit bietet. TEL ALPHA-303 I ist ein fortschrittliches Gerät, das Anwendern eine breite Palette von Funktionen bietet, um überlegene Perfektion, Qualität und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. Es ermöglicht Anwendern, eine Vielzahl von Prozessen in höchster Qualität durchzuführen und gleichzeitig Daten bereitzustellen, um eine erfolgreiche Prozesskontrolle zu gewährleisten.
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