Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #9357815 zu verkaufen
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ID: 9357815
Wafergröße: 12"
LP P-Doped poly furnace, 12"
Process: D-Poly-small flow
Boat operation: (2) Boats
ASYST / ATR9100
Furnace unit:
Heater type: VMM-56-002 5 zones / 500°C -1000°C
T/C For over temperature protection: Kit, chamber O.H.SNSR
Temperature controller: MA901-8FK09-Z250A
Wafer / Carrier handing:
Wafer type: Semi standard notch, 12"
Carrier type: FOUP / 25-Slots
(16) Carrier storages
Fork type / material: 1+4 / Al203
W/T Wafer I/F speed (U/D)
Wafer loading / Unloading sequence: ED => P => M / M => P => ED
Boat / Pedestal:
Production wafers: (100) Wafers
Boat material: SiC with CVD-coat
Boat type: (117) Slots ladder, 8mm
Boat rotation
Pedestal type: Quartz
Process tube:
Quartz outer and inner tube
Inner type: Straight
Internal T/C type
Outer tube interior wall type
Tube sealing: O-Ring seal
Fab constraint:
Waves system controller
Front operation panel
Front MMI and gas flow chart: MMI and GFC
General pressure display unit: Pressure-Mpa / Vac-Torr
Gas cabinet exhaust display unit: SI (Pa)
Furnace temperature controller: M560A
Vacuum system:
Main valve: CKD VEC
Vacuum exhaust system
Vacuum pressure controller: CKD VEC
Vacuum gage:
Pressure control: MKS Capacitance manometer
Press monitor: MKS Capacitance manometer (133 kPa)
Pump monitor: MKS Capacitance manometer
Gas distribution system:
Basic style: Integrated gas system
Tubing: Stainless steel / Electrical-polish (STD)
FUIJKIN Manual valve
FUIJKIN Air-operated valve
MYKROLIS Filter
VERIFLO Regulator
Soft backfill injector
MFC:
SiH4: 3 SLM
PH3: 500 SCCM
PH3: 50 SCCM
PH3: 30 SCCM
ClF3: 5 SLM
N2: 3 SLM
(4) N2: 5 SLM
Process pressure: 73 Pa, 133 Pa
Process temperature: 510°C, 525°C, 530°C.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i ist eine Hochleistungs-Diffusionsofenanlage für den Einsatz in der IC-Produktion. Es ist mit einem fortschrittlichen Heizsystem ausgestattet, das schnellere und konsistentere Ergebnisse ermöglicht. Der Ofen ist aus hartem und dickem Edelstahl gefertigt, um langfristige Zuverlässigkeit und Genauigkeit zu gewährleisten. Es beinhaltet eine automatisierte Probentransfereinheit, die in der Lage ist, Proben mit einer extrem hohen Geschwindigkeit in den Ofen zu legen. In Bezug auf die Leistung ist TEL ALPHA-303I in der Lage, schnelle Aufheizzeiten von bis zu 900 ° C in wenigen Minuten durchzuführen. Es ist mit einer innovativen Temperiermaschine ausgestattet, die während des gesamten Aufheizprozesses eine extrem gleichmäßige Temperatur gewährleistet. Auch beim Arbeiten mit sehr großen Substraten kann das Werkzeug eine gleichbleibende Temperatur ohne Diskrepanzen aufrechterhalten. Zusätzlich ist TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I mit einer fortschrittlichen elektronischen Leistungssteuerung ausgestattet, die den Stromverbrauch reduziert und eine hochwertige Temperaturregelung ermöglicht. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I enthält eine Vielzahl von zusätzlichen Funktionen, um seine Leistung zu verbessern. Es verfügt über ein integriertes CVD-Modul (Chemical Vapor Deposition), das eine maßgeschneiderte Dotierung von elektrischen Substraten ermöglicht und somit eine ideale Wahl für die IC-bezogene Produktion darstellt. Darüber hinaus enthält es auch eine Vielzahl von Zubehör wie ein Quarzboot, Keramikabdeckungen und Glockengläser. Diese Add-ons verbessern die Leistung des Geräts weiter, indem sie eine verbesserte Aufheizverteilung ermöglichen. Insgesamt ist TEL ALPHA-303 I ein Hochleistungs-Diffusionsofenmodell, das für die IC-bezogene Produktion entwickelt wurde. Es ist aus Edelstahl gebaut, um Langlebigkeit und Genauigkeit zu gewährleisten. Es ist auch mit einer Vielzahl von Funktionen ausgestattet, einschließlich einer automatisierten Probenübertragungsausrüstung, schnellen Aufheizzeiten, Temperaturkontrollsystem und CVD-Modul. Darüber hinaus enthält es eine Vielzahl von Zubehör, das seine Leistung weiter verbessern kann.
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