Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 801 #199968 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 801 ist ein Diffusionsofen und Zubehör für die Silizium-Dotierung. Es ist für die Herstellung von Halbleiterbauelementen wie Mikroprozessoren und Solarzellen ausgelegt. TEL Alpha 801 verwendet fortschrittliche Technologie und Ausrüstung, um eine präzise und wiederholbare Silizium-Dotierung bereitzustellen, so dass die verarbeiteten Geräte nach hohen Standards arbeiten. TOKYO ELECTRON Alpha 801 verfügt über eine Quarzgraphitkammer, eine Abgasanlage und ein Gaskontrollsystem. Die Quarzgraphitkammer ist für die Einleitung von bis zu vier Prozessgasen vorgesehen. Es verfügt über eine maximale Betriebstemperatur von 1100 ° C, die Hochtemperaturreaktionen ermöglicht, und ist für schnelles Heizen und Kühlen ausgelegt. Die Abgasanlage ist zum Spülen von gebrauchten Gasen aus der Reaktionskammer enthalten. Es verfügt auch über einen leistungsstarken Lüfter für eine effiziente Entfernung der verwendeten Gase. Die Gassteuermaschine umfasst eine Reihe von Steuerventilen zur Vorbereitung und Drosselung des Prozessgasstroms. Alpha 801 wird auch mit einem integrierten Bedienfeld geliefert, das eine präzise Einstellung und Überwachung der Prozessparameter ermöglicht. Mit seiner einfach zu bedienenden Schnittstelle können Bediener Parameter wie Kammertemperatur, Gasdurchfluss und Druck einstellen und überwachen. Das Bedienfeld enthält auch eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen, die einen sicheren Betrieb gewährleisten. Die Maschine verfügt auch über eine Reihe von anderen Zubehör. Dazu gehört ein Transportwerkzeug, mit dem die Vorrichtung schnell und sicher be- und entladen werden kann; eine Be-/Entladeablage zum sicheren Überführen von Proben zwischen dem Ofen und der Prozesskammer; ein Probenfutter zum sicheren Halten von Proben während der Verarbeitung; und ein Stickstoffreinigungsmittel zum Aufrechterhalten einer Stickstoffatmosphäre um den Ofen herum bei Bedarf. TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 801 ist ein anspruchsvolles Werkzeug für die Silizium-Dotierung und andere Prozesse. Mit seiner Leistung und Vielseitigkeit kann es die Anforderungen einer Reihe von Halbleiteranwendungen erfüllen. Es ist einfach zu bedienen, mit genauer Kontrolle über Parameter und ist eine zuverlässige Lösung für die Geräteproduktion.