Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 808SD #293759916 zu verkaufen

ID: 293759916
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1995
Furnace, 8" Process: HTSIC WDRIV CIM: SECS Carrier and wafer transfer unit ASYST / Pb90C SMIF Layout type: U / box type LL Hand VMU-40-007 Heater Torch heater Gases: N2, O2, H2, Trans-LC Wafer Type: SEMI STD-Notch Cassette Type: Entergris / XT200-01E (25) Cassette wafers (16) Cassettes Fork type / material: 1+4 / AI208 Fork variable pitch TS4000Z System controller Pyro CTL Torch controller Signal tower colours: G/R/A Pressure display units: Pressure Mpa Cabinet exhaust display units: Kpa M121 Furnace temperature controller Does not include Quartzware Gas distribution: Conventional gas system Tubing material: Stainless steel Finish: Electro-polished FUJIKIN manual and air-operated valve MFC Power: Single phase, 120 VAC 3 Phase, 208 VAC UPS Input voltage / output voltage: 120/100 V 1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 808SD ist ein Diffusionsofen und Zubehör für die Herstellung integrierter Schaltungen (ICs). Das Gerät ermöglicht eine wiederholbare und zuverlässige thermische Verarbeitung zur Diffusion von Dotierstoffen in das Substrat zur Geräteintegration. TEL Alpha 808SD verfügt über ein Display zur Steuerung und Überwachung der Waferbearbeitung. Es hat eine offene Rohrausführung mit einer Hydrazinoxidationskammer, einem Flachquarzreaktor und einer Auspuffanlage. Die Hydrazin-Oxidationskammer soll die Hochtemperaturoxidation von Silizium und anderen Hochtemperaturprozessschritten erleichtern. Der Flachquarzreaktor ist so konzipiert, dass eine gleichmäßige Temperatur über den Wafer unter Beibehaltung eines hohen Durchsatzes gewährleistet ist. Die Auspuffanlage ist so konzipiert, dass sie einen effizienten Abgas von Wasserstoff und seinen Komponenten liefert. Das System ist mit zwei großen Heizelementen mit einer maximalen Temperatur von 1200 ° C ausgestattet. Es verfügt auch über eine Prozesssteuerung, die in der Lage ist, die thermischen Prozessparameter wie Temperatur, Zeit und Durchfluss genau zu steuern. Dies gewährleistet eine wiederholbare und zuverlässige Waferbearbeitung. TOKYO ELECTRON ALPHA 808 SD enthält eine Vier-Zonen-Heizeinheit, die eine schnelle Erwärmung der Wafer sowie eine schnelle Kühlung ermöglicht. Die Maschine verfügt über ein automatisiertes Gasförderwerkzeug, das hilft, die Umgebungsbedingungen innerhalb der Kammer unter Kontrolle zu halten. Die Alpha- 808S bietet Lecksuche für Leckagen in der Hauptkammer. Es enthält auch einen Probenlastanschluss, um das Be- und Entladen von Wafern unter Überdruck zu ermöglichen. TOKYO ELECTRON Alpha 808SD ist eine Edelstahlkonstruktion mit modularem Aufbau. Edelstahl bietet einfache Wartung und Installation. Es sorgt auch für eine leckagefreie Umgebung. Alpha 808SD Asset enthält mehrere Zubehörteile, einschließlich Musterhalter, Kühlmittelkits, Kohlenstoffstäbe, Filament-Kits und Schilde. Insgesamt ist TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 808 SD ein robuster und zuverlässiger Diffusionsofen und Zubehör für eine wiederholbare und zuverlässige Waferdiffusionsverarbeitung. Es ist eine ausgezeichnete Wahl für die Herstellung von hochwertigen ICs.
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