Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 808SE #9083661 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 808SE
ID: 9083661
Vertical LPCVD Process: SiO, SiN.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 808SE Diffusionsofen ist ein revolutionäres Werkzeug für Labore, die hochleistungsfähige Halbleiter herstellen wollen. Seine leistungsstarke Antriebs- und Steuerungstechnik ermöglicht eine präzise und präzise Waferbearbeitung. Es verfügt über eine große Kammergröße und verschiedene erweiterte Kühlfunktionen für eine effektive Waferdiffusion. Die Vakuumentgasungskammer sorgt dafür, dass optimale Spülbedingungen für ein effizientes thermisches Glühen eingehalten werden. TEL Alpha 808SE Diffusionsofen ist kompatibel mit einer Reihe von Wafergrößen, von 8 x 8 mm bis 8 x 12 Zoll. Es hat einen niedrigen Verbrauch und hohe Durchsatzraten und bietet Benutzern einen effektiven und effizienten Workflow. Die automatische Kammerdruckregelung beseitigt Abweichungen zwischen unterschiedlichen Lasten, während das eingebaute Ofensicherheitssystem für Sicherheit bei Stromausfall oder anderen unerwarteten Umständen sorgt. TOKYO ELECTRON Alpha 808SE Diffusionsofen verfügt über ein integriertes hochauflösendes Bildgebungssystem, mit dem Benutzer den Diffusionsprozess in Echtzeit überwachen können. Mithilfe der Bildverarbeitungsfunktionen können Benutzer Änderungen der chemischen Konzentration erkennen, um eine genaue und präzise Diffusion zu gewährleisten. Alpha 808SE enthält auch zusätzliches Zubehör zur weiteren Optimierung des Diffusionsprozesses. Das Quarzglas-Floatationsboot Papperler Turbo sorgt für schnellere Kühlung und sauberere Gleichmäßigkeit während der Diffusionsphase. Eine optionale Rotary End Cap-Vorrichtung verbessert die Prozessausbeuten durch präzise Steuerung des Gaseingangs und des Kammerdrucks. Optionale Abschirmdeckel erhöhen die Sicherheit jedes Wafers weiter, indem sie Feuchtigkeitskontaminationen aus der Atmosphäre verhindern. Durch die Nutzung der Leistung des 808SE und seiner Vielzahl an optionalem Zubehör können Anwender optimale Ergebnisse bei der Herstellung von Wafern erzielen. Seine fortschrittlichen Funktionen und Werkzeuge ermöglichen es Anwendern, die Anforderungen der anspruchsvollsten Halbleiteranwendungen zu übertreffen.
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