Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S-ZA #293776298 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8S-ZA Diffusion Ofen ist ein revolutionäres Produkt in der Halbleiterindustrie. Es ist mit erweiterten Prozesssteuerungsfunktionen und erweiterten Funktionen entworfen, die es ideal für die Herstellung von zuverlässigen und Hochleistungsteilen machen. TEL Alpha 8S-ZA ist ein horizontaler Ofen aus fortschrittlicher Aluminiumoxidfaser-Isolierung mit einer ultrapräzisen Musterkammer, perfekt für die Massenproduktion von komplexen. Dieses Gerät enthält eine beheizte Druckkammer für eine verbesserte Temperaturregelung, eine unterbrochene radiale Erwärmung mit Graphit-Hochfrequenz-Induktionsleistung und eine einzigartige beheizte Kammer für eine optimale thermische Steuerung. Darüber hinaus verfügt der Ofen über ein 15-Zoll-Touch-LCD-Display und eine PC-Schnittstelle zur einfachen Bedienung und Steuerung. Die Graphit-Hochfrequenz-Induktionsleistung von TOKYO ELECTRON ALPHA-8S-ZA ist in der Lage, bis zu 800W Leistung mit präziser und gleichmäßiger Heizungsabdeckung zu erreichen, indem Bluetooth-Datenübertragung verwendet wird, um entfernte Standorte zu erreichen. Die beheizte Druckkammer und die unterbrochene radiale Erwärmung ermöglicht es dem Ofen, die gewünschte Temperatur mit hoher Temperaturstabilität in kurzer Zeit zu halten. ALPHA-8S-ZA verfügt dank seines zweistufigen Reinigungssystems auch über schnelle und einfache Reinigungsfunktionen. Die erste Stufe ist eine Inertgasatmosphäre, eine inerte Argon-Atmosphäre, die verbleibende Verunreinigungen im Inneren des Ofens sicher entfernt. Die zweite Ebene ist ein Vakuumsystem sowie ein chemisches Verdampfungssystem, um die Innenteile sauber und frei von Kondensat zu halten. TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA-8S-ZA Diffusionsofen ist hochgradig anpassbar, mit zusätzlichem Zubehör wie Nitrid, chemischer Dampfabscheidung (CVD) und metallversiegelten Öfen. Es ist zuverlässig, konsistent und effektiv und bietet eine präzise und ausgezeichnete thermische Kontrolle sowie eine Reduzierung der Produktionszeit um 40%. Dieses Gerät wurde von der Industrie für seine fortschrittlichen Eigenschaften gelobt, so dass es die ideale Wahl für die Halbleiterproduktion ist.