Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8S ZVF #9227418 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8S ZVF ist ein fortschrittlicher Diffusionsofen und Zubehör, der speziell für die Verarbeitung von Wafern in der Halbleiterindustrie verwendet wird. TEL Alpha 8S ZVF-Geräte bieten eine hervorragende Temperaturgleichmäßigkeit, hohe Durchsatzraten und verbesserte Wafererträge bei CVD- und Diffusionsprozessen. Zu den Merkmalen des TOKYO ELECTRON Alpha 8S ZVF-Systems gehören ein Doppelkammerdesign für Hochtemperatur-CVD, eine Hochdruck-Hochtemperatur-Prozesskammer und eine verbesserte Umgebungskammer für verbesserten Waferdurchsatz. Alpha 8S ZVF enthält auch einen zusätzlichen Inline-Ofen, ein optionales UHV-Leistungsmodul (Ultra High Vacuum) und ist für eine verbesserte Gasverteilung für eine verbesserte Gesamtprozesskontrolle konzipiert. Das Dual Chamber Design von TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8S ZVF ermöglicht einen zweistufigen Prozessablauf mit Hochtemperatur-CVD und Rapid Thermal Processing (RTP) oder Rapid Thermal Annealing (RTA) Modulen, was eine verbesserte Schrittabdeckung, verbesserte Prozessgleichmäßigkeit und höhere Durchsatzraten ermöglicht. Die Doppelkammerkonstruktion beinhaltet außerdem einen quarzelektrischen Duschkopf, der Verarbeitungsgase gleichmäßig verteilt, sowie ein leistungsarmes Waferheizelement zur Verbesserung der Sicherheit. Das Hochdruck-Hochtemperaturmodul von TEL Alpha 8S ZVF sorgt für die Aufrechterhaltung der Kontakttemperatur und bietet gleichzeitig eine hervorragende Materialgleichförmigkeit und einen hohen Waferdurchsatz. Dieses Modul wurde entwickelt, um Drücke bis zu 600 Torr und Temperaturen bis zu 1400 Grad Celsius zu bewältigen, und umfasst auch eine Dual-Quarz-Kohlenstoff-Blattzone, einen verbesserten Quarz-Kohlenstoff-goldbeschichteten Ofen und eine geschlossene Gasverteileinheit. Darüber hinaus ist TOKYO ELECTRON Alpha 8S ZVF Ofen für verbesserte Prozesskontrolle und Sicherheit konzipiert, wodurch Benutzer eine genaue Gastemperaturregelung und ein größeres Prozessfenster erhalten. Das optionale UHV-Leistungsmodul (Ultra High Vacuum) von Alpha 8S ZVF bietet eine noch niedrigere Druckumgebung für Plasma- und vakuumunterstützte Prozesse und ermöglicht Niederdruck-Prozesse bis zu 1400 Grad Celsius. Dieses Modul verfügt außerdem über ein einzelnes Quarzelementdesign, einen dualen quarzelektrischen Duschkopf zur gleichmäßigen Verteilung von Prozessgasen und ein leistungsarmes Wafer-Heizelement zur Verbesserung der Sicherheit. TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8S ZVF Maschine ist entworfen, um der Halbleiterindustrie eine ausgezeichnete Temperaturgleichmäßigkeit, hohe Durchsatzraten und verbesserte Waferausbeuten während CVD- und Diffusionsprozessen zu bieten. Das Dual-Chamber-Design, das Hochdruck-Hochtemperaturmodul und das optionale UHV-Modul des Werkzeugs bieten eine verbesserte Schrittabdeckung, eine verbesserte Prozessgleichförmigkeit und höhere Durchsatzraten, wodurch erhöhte Wafererträge und eine verbesserte Prozesskontrolle gewährleistet sind.