Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8SE-Z #9395874 zu verkaufen

ID: 9395874
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2001
CVD Furnace, 8" Process: Co-SiN Low pressure CVD Wafer shape: Notch Wafer cassette: Plastic miraial, 8" SMIF Interface Cassette I/O Port / SMIF Cassette transfer (12) Cassette stockers (9) Cassette stockers: I/O Side Boat elevator: Cap rotation Wafer transfer: 1 + 4 Pitch conversion Pass box transfer stage Auto shutter: Full close Furnace body: Heater chamber: VMM-40-101, 500 - 1000℃ Furnace stand: N2 L/L Water cooling piping Scavenger Cable duct Gas system: Gas unit: SiN Vacuum piping Temperature controller unit Analyzer unit: N2 L / L O2 Thermometer N2 Purge box: Half size F/Box MFC: FC-786Y-B-TC: N2 20SLM FC-786Y-B-TC: N2 5SLM FC-786Y-B-TC: N2 1SLM FC-985Y-B1: NH3 2SLM FC-985Y-B1: SiH2Cl2, 200SCCM SEC-7340RC-204-4CR: N2 10SLM PCV-1000-3C FC-772C-6V: N2 200SLM MFM: FM-865-B1-TC: SiH2Cl2 200SCCM FM: FM1/2: P-821-4A-6F-V2-M-N2-30L-2M FM3: P-821-30-6F-V2-M-N2-10L-K1.0 P-510-LO-6N-S3-N2-200L P-510-LO-6N-S3-N2-100L P-823-40-6F-S2-S-N2-60L-SP Control system: WAVES M560 Temperature controller Gas flow chart panel with remote Man machine interface with remote Signal tower 2001 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8SE-Z ist ein Diffusionsofen und Zubehör für verschiedene Halbleiterherstellungsprozesse. Dieser Diffusionsofen ist ein vollautomatischer Hochtemperatur-Gasofen, der eine präzise Temperaturregelung und Gleichmäßigkeit ermöglicht. Die fortschrittliche thermische Struktur sorgt für gleichmäßige Temperaturverteilungen über die gesamte Heizzone, um homogene und präzise Ergebnisse zu erzielen. Der Temperaturbereich von TEL ALPHA 8SEZ liegt zwischen 300 ° C und 1350 ° C bei einer maximalen Temperaturschwankung von ± 4. ° C. Dieser Ofen ist für eine gleichmäßige Erwärmung entlang der gesamten vertikalen Scheibe des Halbleitersubstrats mit Hilfe einer Anordnung von beheizten Elementen ausgelegt. Der Ofen ist mit mehreren Funktionen wie einem innovativen thermischen Design, einer leistungsstarken Gasversorgungsausrüstung, einem fortschrittlichen Steuerungssystem und einer maßgeschneiderten peripheren Ausrüstung ausgestattet. Diese Merkmale tragen zum hohen Prozessdurchsatz und zur Wiederholbarkeit des Ofens bei. Die Gasversorgungseinheit ist darauf ausgelegt, eine optimierte Gasmischung und -reduzierung des thermischen Schocks auf beheizten Elementen durch schnelle Änderungen der Gaszusammensetzung zu ermöglichen. Das macht TOKYO ELECTRON ALPHA-8SE-Z ideal für eine Vielzahl von thermischen Prozessen vom Glühen bis zur Diffusion. Eine fortschrittliche Steuerungsmaschine ermöglicht eine präzise Temperaturregelung mit einer Synchronisation zwischen Heiz- und Kühlphase. Das Steuerungstool kann auch an die spezifischen Bedürfnisse des Anwenders angepasst werden, wie automatisiertes Prozess-Tuning und Rezeptoptimierung. Die maßgeschneiderte periphere Ausstattung ermöglicht eine schnelle und einfache Integration des Ofens in bestehende Produktionslinien. Neben seiner außergewöhnlichen thermischen Leistung ist Alpha 8SE-Z auf die Einhaltung von Sicherheitsstandards mit mehreren eingebauten Sicherheitssystemen und einer explosionsgeschützten Struktur ausgelegt. Es ist auch mit integriertem Faraday-Käfig, Widerstandsmesseinheit (RMU) und Magnetkernsensor (MSC) ausgestattet, um den Mikrochip vor externen magnetischen Störungen zu schützen. Insgesamt ist TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8 SE Z ein branchenführender Diffusionsofen, der eine präzise Temperaturregelung und Gleichmäßigkeit für verschiedene Halbleiterprozesse ermöglicht. Mit seiner hohen Leistung, Sicherheitsstandards und integralem Zubehör ist ALPHA-8SE-Z eine gute Wahl für jede Halbleiterherstellungsanlage, die nach zuverlässigen Diffusionsofenprodukten sucht.
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