Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8SE #9253985 zu verkaufen

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ID: 9253985
Wafergröße: 8"
Vertical furnace, 8" Process: Nitride WAVES Display for PDU unit Furnace: WAVES 3.11 Controller CKD Pressure controller M560 Temp controller VMM-40-101 Heater (5) Control zones IGS Gas pattern panel PDU Unit R-Axis NOMARL ETC AERA MFC MKS Baratron Pressure controller: MKS Baratron Sensor BS1 MKS Baratron Sensor BS2 N.C Pressure gauge N.C Pressure gauge controller CKD Pressure control N.C Main valve Loading system: Transfer fork: 4+1 (21) Upper stages (2) Transfer stages Flat zone aligner Wafer counter sensor Power supply: Heater power: 440 V Control power: 208 V.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8SE ist ein Diffusionsofen und Zubehör für Halbleiterbauelemente, um Produktionslösungen für verbundene Bauelemente bereitzustellen. TEL ALPHA-8SE ist ein unglaublich langlebiger und vielseitiger Ofen, der in der Lage ist, eine Vielzahl komplexer Fertigungs- und Montageprozesse durchzuführen. Als solches kann es in den verschiedensten industriellen Anwendungen verwendet werden, am prominentesten in der Halbleiterbauelemente- und Bauelementmontageindustrie. TOKYO ELECTRON ALPHA-8 SE verfügt über eine Edelstahlkammer mit keramischen Auskleidungen, die eine präzise Temperaturregelung mit Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit ermöglicht. Dies hilft, Temperaturschwankungen bei der präzisen Herstellung und Herstellung temperaturempfindlicher Komponenten zu eliminieren. Der Temperaturbereich von ALPHA-8 SE liegt zwischen 200 ° C und 1.000 ° C und ist für eine genaue Temperaturregelung und eine präzise Oxidationsregelung ausgelegt. Der Ofen bietet auch eine ausgezeichnete innere Gleichmäßigkeit und liefert gleichmäßige Temperaturen in seiner gesamten Kammer. Dies wird durch die kreisförmige Duschkopfgestaltung und die präzise Gasflußmenge erreicht. Innerhalb von ALPHA-8SE sorgt ein präzises 12-Zonen-Gassystem für Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit bei allen Prozessen durch die richtige Gasmischung. Dieser Ofen ist in der Lage, viele Prozesse im Zusammenhang mit der Montage von Halbleiterbauelementen. ALPHA 8 S E kann in Glühprozessen, sowohl bei Oxidation und Reduktion, als auch bei Ätz- und Dotierungsdiffusionsprozessen eingesetzt werden. Es unterstützt auch Prozesse wie Niederdruck Chemical Vapor Deposition (CVD), Diffusion von Sauerstoff, Schwefeloxid und Stickoxid, sowie Nassätzen, thermische Oxidation und Nitridation. TEL ALPHA 8S-E arbeitet mit seiner proprietären Prozesssteuerungssoftware, die eine präzise und konsistente Steuerung verschiedener Parameter ermöglicht. Dieses Programm ermöglicht die einfache Einrichtung und Anpassung aller Prozessparameter und Steuerwerte mit Expertenmodi, mit denen Bediener bis zu vier Prozesse in einem Zyklus durchführen können. TEL ALPHA 8 SE ist ein intuitiver und effizienter Diffusionsofen für die Herstellung und Montage von Halbleiterbauelementen. Mit seiner präzisen Temperaturgleichförmigkeit, Wiederholbarkeit und vielfältigen Prozessfähigkeiten kann dieser Ofen helfen, die schnelle und genaue Produktion von verbundenen Geräten sicherzustellen.
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