Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8SEi #293817034 zu verkaufen
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ID: 293817034
FTP-SiN furnace
N2 Load Lock
Maintenance fixture
Temperature Profile Jig
Inner Tube Installation Jig
Fork Pitch Gauge
HCT Heater Installation Jig
CKD Comb-Valve Maintenance Jig
Tube Cart
Single T/C and extension cable
Auto profile T/C
IGS Maintenance Jig
Safety Guard Fixture for back door
Backdoor Remover
Base Unit for FTP-SiN Process Cabinets/Units/Controllers
Furnace Cabinet(I-Type Deep Bay), Built in SMIF I/O
Power Supply Unit, Control Unit:3-ph 480VAC, 1-ph 120VAC.
Main Controller (WAVES)
Temperature Controller (Model 560)
Heater Type VOS-40-017 500-1000C (FTP Heater)
Rapid Cooling Unit
Cassette and Wafer Handling Automation
Auto Tube Shutter
Boat Elevator with Rotation Function
Boat Elevator CAP for Q'z process tube
Wafer Load Automation
(25) Wafers/6" Conversion Cassette
(21) Cassette Loading Automation
Cassette model: Entegris KXTC150-0 200-97C02
SMIF POD Model: Entegris M200-5114
6" Si/Glass Wafer Handling Capability
SiN Process:
Integrated Gas System for F-Poly Process
(2) NH3 Gas Line (with N2 purge line)
(1) DCS Gas Line (with N2 purge line)
(3) N2 Gas Line
(2) Pure N2 Gas Line
(1) N2 line for boat rotation.
TELEFON / ELEKTRON-Alpha von TOKIO 8SEi ist ein modernster für Hochleistungshalbleiterfertigungsverfahren spezifisch entworfener Verbreitungsbrennofen. Diese fortschrittliche Ausrüstung integriert modernste Technologie, um präzise und zuverlässige Ergebnisse für Dotierungs- und Glühanwendungen in der Halbleiterindustrie zu liefern. TEL Alpha 8SEi ist Teil der renommierten TEL-Serie von Diffusionsöfen, die für ihre beispiellose Leistung und Zuverlässigkeit in der Halbleiterverarbeitung bekannt ist. Das Kernstück des TOKYO ELECTRON Alpha 8SEi Systems ist sein robustes und innovatives Design, das den anspruchsvollen Anforderungen der modernen Halbleiterherstellung gerecht wird. Die Ofenkammer ist aus hochreinen Materialien aufgebaut, um eine überlegene thermische Stabilität und Prozessreinheit zu gewährleisten. Diese optimierte Konstruktion ermöglicht eine gleichmäßige Temperaturverteilung und eine kontrollierte Gasströmung innerhalb der Kammer, was eine präzise Prozesssteuerung und konsistente Dotierungsprofile über die Waferoberfläche ermöglicht. Alpha 8SEi verfügt über fortschrittliche Heiz- und Kühlmechanismen, die ein schnelles thermisches Rampen und eine präzise Temperaturregelung während des gesamten Prozesszyklus ermöglichen. Diese Fähigkeit ist wesentlich, um präzise Dotierungsaktivierungs- und Glühprofile in Halbleiterbauelementen zu erreichen. Das Gerät ist mit mehreren Heizzonen und Gasinjektoren ausgestattet, um die thermischen Bedingungen für spezifische Prozessanforderungen anzupassen und eine optimale Leistung und Flexibilität für eine Vielzahl von Anwendungen zu gewährleisten. Neben seiner überlegenen thermischen Leistung verfügt TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8SEi Ofen über eine Reihe von fortschrittlichen Funktionen zur Verbesserung der Prozesseffizienz und Zuverlässigkeit. Die Maschine ist mit präzisen Gasströmungssteuerungssystemen und automatisierten Rezepturmanagementfunktionen ausgestattet, die eine nahtlose Integration in Fertigungsabläufe und eine Minimierung des Eingriffs des Bedieners ermöglichen. Der Ofen umfasst auch umfassende Sicherheitsmechanismen und Ausrüstungsüberwachungssysteme, um jederzeit Betriebssicherheit und Personalsicherheit zu gewährleisten. Eines der wichtigsten Highlights von TEL Alpha 8SEi Tool ist seine außergewöhnliche Prozessreproduzierbarkeit und Ertragsoptimierung. Die Anlage wurde entwickelt, um Wafer-zu-Wafer-Variationen und Prozessabweichungen zu minimieren und eine konstante Geräteleistung und hohe Fertigungserträge zu gewährleisten. Die Ofensoftware ist mit fortschrittlichen Prozessmodellierungs- und Optimierungswerkzeugen ausgestattet, um Prozessparameter feinabzustimmen und eine optimale Leistung für spezifische Geräteanforderungen zu erzielen. TOKYO ELECTRON Alpha 8SEi Modell ist auch mit Blick auf Skalierbarkeit und Vielseitigkeit konzipiert, die eine nahtlose Integration in bestehende Halbleiterherstellungsanlagen und Prozessabläufe ermöglicht. Die Ausrüstung kann einfach angepasst und aktualisiert werden, um den sich entwickelnden Prozessanforderungen und Technologieknoten gerecht zu werden, wodurch langfristige Leistung und Investitionsschutz für Halbleiterhersteller gewährleistet werden. Insgesamt ist Alpha 8SEi Diffusionsofen eine hochmoderne Lösung für präzise Dotierungs- und Glühprozesse in der Halbleiterherstellung. Mit seiner fortschrittlichen Technologie, seiner überlegenen Leistung und dem zuverlässigen Betrieb bietet TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8SEi Halbleiterherstellern einen Wettbewerbsvorteil bei der Erzielung hoher Geräteleistung, Ertragsoptimierung und Prozesseffizienz in einer sich schnell entwickelnden Industrielandschaft.
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