Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8SEi #293830601 zu verkaufen
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ID: 293830601
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2019
Furnace, 6"
Process: Poly
SECS/GEM
(5) Zones
CE Mark certified
System controller: WAVES
Temperature range: 500-1000°C
Temperature controller: 560-A
Front surface finish: White
O-Ring tube seal
Signal lamp tower
Gas leak detection
Wafer type: FLAT
Wafer handler type: 5 Fork
Fork material: Alumina
Stocker: 21 Carrier
Load size: 170
Transfer stage wafer position sensor
Fork wafer position sensor
MFC type: Horiba STEC
Pressure display units: MPA
Control pressure sensor: MKS 623B
Main valve heated lines
TORR and MPA Pressure display units
CKD-VEC-R Main valve
Cooling water connection: Bottom
Incoming gas connection: Top
Vacuum foreline: Bottom
Furnace exhaust connection: Top
Vent exhaust connection: Top
Gas unit exhaust connection: Top
Pressure relief drain: Bottom
Cabinet exhaust display units: TORR
Internal UPS
FUJI M-UPS GX100
Gas / MFC Model / Line / MFC Size
N2 / Aera / ¼” / 20 L
N2 / Aera / ¼” / 5 L x 5
SiH4 / Aera / ¼” / 500cc x 2
H2 / Aera / ¼” / 200cc x 3
0.5% BCl3/H2 / Aera / ¼” / 100cc x 3
Power supply: 120 V, 1Phase + 480 V, 3Phase
2019 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8SEi ist eine hochmoderne Diffusionsofenanlage für die Serienproduktion von Halbleiterbauelementen. Es ist ein hochentwickeltes und vielseitiges Werkzeug, das eine präzise Kontrolle über den Diffusionsprozess bietet, was zu überlegener Geräteleistung und Ausbeute führt. TEL Alpha 8SEi ist mit modernster Technologie und innovativen Funktionen ausgestattet, die es zu einer bevorzugten Wahl für führende Halbleiterhersteller weltweit machen. Eines der Hauptmerkmale von TOKYO ELECTRON Alpha 8SEi ist sein einzigartiges horizontales Ofendesign, das eine effiziente und gleichmäßige Diffusion von Dotierstoffmaterialien auf die Oberfläche von Siliziumwafern ermöglicht. Diese Konstruktion minimiert Fehler und sorgt für konsistente Geräteeigenschaften über den Wafer, was zu verbesserten Erträgen und Gesamtleistung der Geräte führt. Die horizontale Konfiguration ermöglicht auch einfaches Be- und Entladen von Wafern, reduziert Ausfallzeiten und steigert die Produktivität. Alpha 8SEi ist in der Lage, eine breite Palette von Prozessgasen und Dotierstoffmaterialien zu handhaben, so dass es für eine Vielzahl von Diffusionsanwendungen geeignet ist. Es bietet eine präzise Temperaturregelung bis 1200 ° C und ermöglicht die Anpassung von Diffusionsprofilen an spezifische Geräteanforderungen. Das System ist mit fortschrittlichen Gasdurchflussregelungsmechanismen und Prozessüberwachungsfunktionen ausgestattet, um zuverlässige und wiederholbare Diffusionsergebnisse zu gewährleisten. Neben seinem primären Diffusionsofen kommt TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8SEi mit einer Reihe von Zubehör und Optionen, die seine Leistung und Vielseitigkeit verbessern. Dieses Zubehör umfasst eine spezielle Gashandhabungseinheit, eine computergestützte Steuerschnittstelle und erweiterte Wafer-Handhabungsmechanismen. Die Maschine kann mit einer Reihe von Automatisierungslösungen wie Roboter-Wafer-Transfersystemen und fortschrittlicher Prozesssteuerungssoftware integriert werden, um die Produktionsabläufe weiter zu optimieren und die Gesamteffizienz zu verbessern. TEL Alpha 8SEi ist mit einem Fokus auf Sicherheit und Zuverlässigkeit konzipiert, mit fortschrittlichen Sicherheitsverriegelungen, Übertemperaturschutzmechanismen und umfassenden Diagnosewerkzeugen. Das Werkzeug ist nach strengen Qualitätsstandards gebaut und wird streng geprüft, um seine Haltbarkeit und langfristige Zuverlässigkeit in einer serienreichen Umgebung zu gewährleisten. TEL bietet umfassende Schulungs- und Support-Services, um Kunden zu helfen, die Leistung und Effizienz von TOKYO ELECTRON Alpha 8SEi Asset zu maximieren. Insgesamt ist Alpha 8SEi Diffusionsofenmodell ein modernes Werkzeug, das unübertroffene Präzision, Zuverlässigkeit und Vielseitigkeit für Halbleiterherstellungsanwendungen bietet. Mit seinem innovativen Design, fortschrittlichen Funktionen und umfassenden Support-Services ist TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8SEi eine ideale Wahl für Halbleiterhersteller, die hohe Erträge, überlegene Geräteleistung und operative Exzellenz in ihren Produktionsprozessen erzielen möchten.
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