Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON FORMULA High-K #9290897 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON FORMULA High-K ist ein Diffusionsofen und zugehörige Zubehörausrüstung von TEL, die ein hochdichtes, hochleistungsfähiges Diffusionsverfahren bietet. TEL FORMULA High-K System ist ideal für die Verarbeitung von Halbleiterbauelementen und bietet überlegene Gleichmäßigkeit, Präzision und Wiederholbarkeit. Unter Verwendung einer detaillierten Prozesssteuerung ist TOKYO ELECTRON FORMULA High-K auf spezifische Geräteverarbeitungsanwendungen wie Anneal, Junction, Aktivierung und laterale Oxidation zugeschnitten. Für Anwendungen mit thermischem oder schnellem thermischem Glühen (RTA) bietet FORMULA High-K höchste Gleichmäßigkeit und Stabilität. Mit einem breiten Temperaturbereich und einer präzisen Temperaturregelung kann die Temperatur des Wafers/High-K mit geringen Abweichungen von Teil zu Teil effizient durchgeführt werden. Die „Tight Loop Control“ (TLC) von high-K wurde durch die Kombination einer PID-Regelung (Proportional Integral Derivative) und einer Regelung erzielt. Der Regelalgorithmus ermöglicht eine präzise Temperaturregelung über kurze und lange Prozesse und ermöglicht eine breite Palette thermischer Prozessparameter. TEL/TOKYO ELECTRON FORMULA High-K verfügt auch über eine direkte Antriebsgaseinspritzeinheit, die potentielle Fehler zwischen Differenzdruck, Massenstrom und Motordrehzahl beseitigt. Diese Direktantriebsmaschine bietet zudem ein robustes und sauberes Auspuffwerkzeug. Die direkte Antriebseinspritzung reduziert Ausfallzeiten durch Wartung und verbessert die Gleichmäßigkeit des Prozesses. Das Abgasmodell verwendet einen Diffusor, um die Effizienz zu maximieren und eine gleichmäßige Gasverteilung über den gesamten Waferbereich auch bei hohen Druckniveaus zu gewährleisten. Ein breites Sortiment an Zubehör ist mit TEL FORMULA High-K erhältlich, um spezifischen Geräteverarbeitungsanforderungen gerecht zu werden. Das Gerät ist mit verschiedenen Arten von Kühlern und Heizungen für eine effiziente thermische Steuerung und Prozessgleichförmigkeit sowie einem internen elektrischen Tor für einstellbare Temperatur und Durchfluss. Darüber hinaus bieten Begleitwerkzeuge wie ein Absperrschieber, Oxidationsthermistoren und Druck-/Durchflussregler eine umfassende Lösung für die moderne Gerätebearbeitung. Kurz gesagt, ermöglicht TOKYO ELECTRON FORMULA High-K eine engmaschige Steuerung von Diffusionsprozessen von Anfang bis Ende. Dieses System ermöglicht eine hochdichte, hochleistungsfähige Diffusionsverarbeitung von Halbleitern und bietet eine Reihe wünschenswerter Merkmale wie eine präzise Temperaturregelung, eine direkte Antriebsgaseinspritzung und eine robuste Abgaseinheit. Darüber hinaus bietet eine breite Palette an optionalem Zubehör zusätzliche Kontrolle und Präzision für spezifische Anforderungen an die Gerätebearbeitung und sorgt für optimale Ergebnisse bei der Geräteherstellung.