Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON TELFORMULA 1-H #9206524 zu verkaufen

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ID: 9206524
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2003
Vertical LPCVD nitride furnace, 12" Cassette to cassette 2003 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA 1-H Diffusionsofen ist die neueste Technologie in der Inline-Waferbearbeitung. Dieser vertikal belastete Diffusionsofen mit einem Wafer bietet eine hohe Präzisionsgleichförmigkeit und Wiederholbarkeit. Die elektrische Ofenheizgasanlage mit konstantem Durchfluss liefert zuverlässige Ergebnisse für die hochwertige Waferbearbeitung mit ultrafeiner Kontrolle von Atmosphäre und Temperatur. TEL TELFORMULA 1-H kann Temperaturen von bis zu 1000 ° C erreichen und verfügt über ein automatisches Drucksteuerungssystem (APC) und einen Hochkontrasttemperaturanzeiger (HTI), um Präzision und Genauigkeit zu gewährleisten. Die eingebauten Düsen sind mit einem vereinfachten Gasförderweg ausgelegt, der eine gleichmäßige Gasströmung und eine schnelle Gasspülung ermöglicht. TOKYO ELECTRON TELFORMULA 1-Hs Arbeitslaststützstruktur mit niedriger Gleichmäßigkeit ist speziell für die hocheffiziente Waferbearbeitung konzipiert. Darüber hinaus vereinfacht seine niederdruck- und hochgenaue Wafer-Prozessablaufsteuerung die Prozessoptimierung. Dadurch werden die Kosten für die Waferbearbeitung deutlich reduziert. TELFORMULA 1-H zeigt auch eine intelligente Prozesssynchronisationskontrolle, eine Temperaturgleichförmigkeitsanerkennungseinheit und eine automatische Oblatenmaschine der Be-und Entladung. Damit ist ihre Produktivität der herkömmlicher Diffusionsöfen weit überlegen. Darüber hinaus ist es mit einer modernen benutzerfreundlichen Oberfläche ausgestattet und kann eine Vielzahl von Rezeptschritten durchführen, so dass es ideal für komplexe Waferprozesse ist. Um die Sicherheit zu gewährleisten, ist TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA 1-H mit einem Notabschalter, einem Spülgas-Luftstrom-Monitor und einem Infrarot-Pyrometer ausgestattet, die die Ofenatmosphäre in Echtzeit messen. Insgesamt ist TEL TELFORMULA 1-H Diffusionsofen mit seinen fortschrittlichen Eigenschaften, Präzision und Wiederholbarkeit die perfekte Wahl für die High-End-Waferbearbeitung. Seine zuverlässige Technologie sorgt für konsistente Ergebnisse und seine intelligente Benutzeroberfläche ermöglicht vereinfachte und optimierte Waferprozesse.
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