Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON UX-11P10-4HT #9198284 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON UX-11P10-4HT ist ein Diffusionsofen und begleitendes Zubehör für die Halbleiterindustrie. Es wird verwendet, um die Diffusion von Implantatgas in Siliziumscheiben zu ermöglichen. TEL UX-11P10-4HT ist ein Diffusionsofen, der mit einer Einzel-Wafer-Ladeschloßkammer ausgelegt ist und einen schnellen Zugriff und die Möglichkeit ermöglicht, mehrere Wafer in einem einzigen Zyklus zu bearbeiten. Die äußeren Abmessungen betragen 1130mm (B) x 980mm (D) x 1985mm (H) und die normale maximale Prozesstemperatur beträgt 1100 ° C (2000 ° F). Der Ofen verwendet fortschrittliche POCVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) Technologie für eine optimale Temperaturregelung und vergleichsweise niedrige thermische Beständigkeit. Die dazugehörige Software ist hochentwickelt und ermöglicht eine präzise Steuerung der Diffusionsprozessparameter. Der Betrieb kann von außerhalb der Kammer überwacht werden und ist für eine einfache Integration mit anderen Automatisierungsgeräten ausgelegt. Neben dem Diffusionsofen umfasst das komplette Zubehörset ein modulares Gaskastensystem, das die sichere Handhabung und Versorgung verschiedener Gase und Materialien ermöglicht. Es ist mit einer Thermoelement-Schnittstelle ausgestattet, so dass der Benutzer den Prozess in Echtzeit überwachen kann. Die vorgesehene Stromversorgung ist in der Lage, bis zu 4KW in die Kammer zu liefern. Um eine optimale Ionisierung der Kammer zu gewährleisten, ist ein Hochfrequenzgenerator mit zwei Wellenformen vorgesehen. Der Diffusionsofen von TOKYO ELECTRON UX-11P10-4HT ist für einen schnellen und einfachen Zugang ausgelegt. Es ist mit einem am Kammerdeckel angebrachten beweglichen Verteiler sowie einer Temperaturregelung ausgestattet, die im Diffusionsbereich der Prozesskammer eine konstante Temperatur liefert. Die Kammer kann in verschiedenen Atmosphären betrieben werden, einschließlich Helium, Argon und Stickstoff. Insgesamt ist UX-11P10-4HT ein fortschrittliches und effizientes Diffusionsofensystem für die Halbleiterindustrie. Ausgestattet mit dem dazugehörigen Zubehör und der Software erfüllt es alle Anforderungen eines Standard-Diffusionsprozesses. Es wurde mit Blick auf Zuverlässigkeit und Sicherheit entworfen, um den Anwendern Sicherheit in ihren Prozessen und ausgezeichnete Ergebnisse zu gewährleisten.